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常压烧结制备TaC陶瓷及其氧化烧蚀行为的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第1章 绪论第10-23页
   ·TaC的物理化学性质及应用第10-13页
     ·钽(Ta)的物理化学性质第10-11页
     ·TaC的物理化学性质第11-12页
     ·TaC材料的应用第12-13页
   ·过渡金属难熔碳化物的应用与氧化研究现状第13-18页
     ·过渡金属碳化物的结构特性与应用第13-16页
     ·过渡金属碳化物的氧化研究现状第16-18页
       ·过渡金属碳化物(非TaC)的氧化研究现状第16-18页
       ·碳化钽的氧化研究现状第18页
   ·TaC陶瓷材料的制备方法第18-20页
   ·研究背景、目的及意义第20-22页
   ·本论文研究内容第22-23页
第2章 试验内容、方法与设备第23-28页
   ·TaC试样制备的研究第23-25页
     ·原材料第24-25页
     ·试样制备工艺第25页
     ·模压设备第25页
     ·烧结设备第25页
   ·TaC材料性能表征第25-28页
     ·TaC材料氧化性能测试第25-26页
       ·非等温氧化试验第25页
       ·等温氧化试验第25-26页
     ·氧炔焰烧蚀试验第26-27页
     ·密度第27页
     ·X射线衍射分析第27页
     ·金相分析第27页
     ·扫描电子显微镜分析第27-28页
第3章 烧结制备TaC陶瓷第28-39页
   ·常压固相烧结法制备TaC陶瓷第28-30页
     ·温度对常压烧结TaC陶瓷表面形貌的影响第28-29页
     ·温度对常压烧结TaC微观结构的影响第29-30页
     ·TaC常压固相烧结分析第30页
   ·反应烧结制备TaC陶瓷第30-32页
   ·添加少量Ta、C粉末活化烧结制备TaC陶瓷第32-35页
     ·添加少量Ta、C粉末活化制备TaC陶瓷的微观形貌第32-33页
     ·烧结温度对少量Ta、C活化烧结TaC陶瓷结构的影响第33-34页
     ·添加C、Ta含量对活化烧结后TaC陶瓷微观结构的影响第34-35页
   ·反应烧结与活化烧结制备TaC陶瓷的烧结过程分析第35-36页
   ·制备TaC陶瓷材料工艺的选择第36-37页
   ·小结第37-39页
第4章 TaC高温氧化及氧化机理分析第39-68页
   ·TaC热分析特征的研究第41-44页
     ·不同氧分压下TaC粉末氧化特性第41-42页
     ·TaC陶瓷Tg-DSC研究第42-44页
   ·TaC陶瓷等温氧化动力学研究第44-48页
     ·TaC陶瓷静态空气等温氧化动力学第44-46页
     ·氧分压对1400℃等温氧化的影响第46-48页
   ·氧化物表面物相分析第48-49页
   ·TaC陶瓷氧化形貌特征第49-58页
     ·TaC陶瓷氧化宏观形貌第49-51页
     ·氧化表面微观形貌第51-53页
     ·TaC陶瓷氧化后结构分析第53-58页
       ·氧化温度对氧化后材料微观结构的影响第53-55页
       ·氧化后材料氧化层内孔隙的特点第55-56页
       ·氧化后材料层内元素的分布特点第56-58页
   ·TaC氧化过程讨论分析第58-66页
     ·TaC氧化动力学分析第59-60页
     ·氧分压对氧化过程的影响第60-61页
     ·1000~1400℃范围多孔氧化物中气体扩散示意图第61-64页
     ·多孔氧化钽的形成机理第64-66页
   ·本章小节第66-68页
第5章 TaC超高温烧蚀行为研究第68-81页
   ·前言第68页
   ·TaC陶瓷氧炔焰烧蚀形貌分析第68-74页
     ·TaC陶瓷氧炔焰烧蚀宏观照片第68-69页
     ·TaC陶瓷烧蚀表面形貌第69-71页
     ·TaC陶瓷烧蚀截面微观结构第71-73页
     ·烧蚀后表面物相分析第73页
     ·TaC烧蚀形貌的讨论分析第73-74页
   ·烧蚀时间对烧蚀形貌的影响第74-78页
     ·不同烧蚀时间的TaC烧蚀形貌第74-76页
     ·反应界面处微观结构第76-78页
   ·TaC陶瓷烧蚀过程讨论分析第78-79页
   ·本章小节第79-81页
第6章 结论第81-83页
参考文献第83-89页
致谢第89-90页
攻读硕士学位期间发表的论文第90页

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