| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-17页 |
| ·金属-半导体接触 | 第7-10页 |
| ·氧化锌材料的基本特性 | 第10-11页 |
| ·金属-ZnO 半导体接触研究现状 | 第11-17页 |
| ·欧姆接触 | 第11-13页 |
| ·肖特基接触（整流接触） | 第13-17页 |
| 第二章 实验设备和表征方法简介 | 第17-24页 |
| ·实验设备 | 第17-19页 |
| ·热退火装置 | 第17-18页 |
| ·电压电流源 | 第18-19页 |
| ·表征方法 | 第19-24页 |
| ·X 射线衍射原理 | 第19-20页 |
| ·Van der Pauw 法测试原理 | 第20-21页 |
| ·透射反射谱 | 第21-22页 |
| ·I-V 特性测量 | 第22-24页 |
| 第三章 IrO_2/n-ZnO接触结构制备 | 第24-26页 |
| ·IrO_2 薄膜制备 | 第24-25页 |
| ·IrO_2/n-ZnO接触结构的制备 | 第25-26页 |
| 第四章 IrO_2/n-ZnO接触微结构及其电学特性 | 第26-33页 |
| ·IrO_2薄膜结构及特性表征 | 第26-28页 |
| ·IrO_2 薄膜X射线衍射谱 | 第26-27页 |
| ·IrO_2 薄膜透射光谱 | 第27页 |
| ·IrO_2 薄膜电学特性研究 | 第27-28页 |
| ·IrO_2/n-ZnO结构及特性表征 | 第28-33页 |
| ·IrO_2/n-ZnO结构ZnO薄膜X射线衍射谱 | 第28-29页 |
| ·IrO_2/n-ZnO接触I-V特性测量 | 第29-31页 |
| ·IrO_2/n-ZnO结构热稳定性研究 | 第31-33页 |
| 第五章 结论 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-36页 |
| 致谢 | 第36页 |