摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
主要符号表 | 第7-8页 |
论文插图索引 | 第8-11页 |
论文表格索引 | 第11-12页 |
目录 | 第12-15页 |
第一章 绪论 | 第15-29页 |
·浸没式光刻技术研究背景 | 第15-20页 |
·集成电路发展概况 | 第15-16页 |
·光学光刻 | 第16-19页 |
·下一代光刻技术 | 第19-20页 |
·浸没式光刻技术原理 | 第20-22页 |
·国内外研究现状 | 第22-27页 |
·浸液系统研究进展概述 | 第22-26页 |
·自由液面与多孔介质CFD仿真研究概述 | 第26-27页 |
·课题研究意义 | 第27-28页 |
·主要研究内容 | 第28-29页 |
第二章 浸液单元内缝隙流动特性研究 | 第29-42页 |
·液体注入过程的物理特性 | 第29-31页 |
·液体注入过程的流场仿真 | 第31-41页 |
·FLUENT软件基本结构 | 第31-32页 |
·自由液面(VOF)模型的建立 | 第32-35页 |
·接触角的影响 | 第35-36页 |
·硅片扫描方向的影响 | 第36页 |
·入口速度和角度的影响 | 第36-40页 |
·注液过程液面形状 | 第40-41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
第三章 浸液单元实验系统 | 第42-53页 |
·承片台的硬件组成 | 第42页 |
·控制器的总体方案设计 | 第42-44页 |
·控制器的设计实现 | 第44-45页 |
·电机控制模式的确定 | 第44-45页 |
·控制器与伺服电机的硬件连接 | 第45页 |
·控制器的软件系统 | 第45-50页 |
·PEWIN32控制软件 | 第45-46页 |
·运动控制器各变量的初始化 | 第46-47页 |
·运动控制器坐标系的建立 | 第47页 |
·运动程序的编写 | 第47-48页 |
·系统控制参数调节 | 第48-50页 |
·气—液控制回路软硬件组成 | 第50-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
第四章 液密封浸液单元设计、仿真与实验研究 | 第53-66页 |
·密封方法简介 | 第53-54页 |
·液密封的原理 | 第54页 |
·液密封浸液单元初步设计 | 第54-56页 |
·多孔介质液密封液单元设计 | 第56-64页 |
·多孔介质简介 | 第56-58页 |
·多孔介质中的流动特性 | 第58页 |
·多孔介质仿真模型的建立 | 第58-60页 |
·多孔介质二维仿真结果 | 第60-63页 |
·多孔介质三维仿真与实验验证 | 第63-64页 |
·本章小结 | 第64-66页 |
第五章 气—液混合密封浸液单元设计、仿真与实验研究 | 第66-71页 |
·气密封的原理 | 第66页 |
·气密封浸液单元初步设计 | 第66-68页 |
·气密封压力均布浸液单元设计 | 第68页 |
·气—液混合密封浸液单元设计 | 第68-69页 |
·本章小结 | 第69-71页 |
第六章 浸液单元初步力效应研究 | 第71-74页 |
·透镜力效应研究 | 第71-73页 |
·本章小结 | 第73-74页 |
第七章 总结与展望 | 第74-76页 |
·研究总结 | 第74页 |
·工作展望 | 第74-76页 |
参考文献 | 第76-81页 |
攻读学位期间取得的学术成果 | 第81-82页 |
致谢 | 第82-83页 |