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浸没光刻液体传送及控制系统研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-7页
主要符号表第7-8页
论文插图索引第8-11页
论文表格索引第11-12页
目录第12-15页
第一章 绪论第15-29页
   ·浸没式光刻技术研究背景第15-20页
     ·集成电路发展概况第15-16页
     ·光学光刻第16-19页
     ·下一代光刻技术第19-20页
   ·浸没式光刻技术原理第20-22页
   ·国内外研究现状第22-27页
     ·浸液系统研究进展概述第22-26页
     ·自由液面与多孔介质CFD仿真研究概述第26-27页
   ·课题研究意义第27-28页
   ·主要研究内容第28-29页
第二章 浸液单元内缝隙流动特性研究第29-42页
   ·液体注入过程的物理特性第29-31页
   ·液体注入过程的流场仿真第31-41页
     ·FLUENT软件基本结构第31-32页
     ·自由液面(VOF)模型的建立第32-35页
     ·接触角的影响第35-36页
     ·硅片扫描方向的影响第36页
     ·入口速度和角度的影响第36-40页
     ·注液过程液面形状第40-41页
   ·本章小结第41-42页
第三章 浸液单元实验系统第42-53页
   ·承片台的硬件组成第42页
   ·控制器的总体方案设计第42-44页
   ·控制器的设计实现第44-45页
     ·电机控制模式的确定第44-45页
     ·控制器与伺服电机的硬件连接第45页
   ·控制器的软件系统第45-50页
     ·PEWIN32控制软件第45-46页
     ·运动控制器各变量的初始化第46-47页
     ·运动控制器坐标系的建立第47页
     ·运动程序的编写第47-48页
     ·系统控制参数调节第48-50页
   ·气—液控制回路软硬件组成第50-52页
   ·本章小结第52-53页
第四章 液密封浸液单元设计、仿真与实验研究第53-66页
   ·密封方法简介第53-54页
   ·液密封的原理第54页
   ·液密封浸液单元初步设计第54-56页
   ·多孔介质液密封液单元设计第56-64页
     ·多孔介质简介第56-58页
     ·多孔介质中的流动特性第58页
     ·多孔介质仿真模型的建立第58-60页
     ·多孔介质二维仿真结果第60-63页
     ·多孔介质三维仿真与实验验证第63-64页
   ·本章小结第64-66页
第五章 气—液混合密封浸液单元设计、仿真与实验研究第66-71页
   ·气密封的原理第66页
   ·气密封浸液单元初步设计第66-68页
   ·气密封压力均布浸液单元设计第68页
   ·气—液混合密封浸液单元设计第68-69页
   ·本章小结第69-71页
第六章 浸液单元初步力效应研究第71-74页
   ·透镜力效应研究第71-73页
   ·本章小结第73-74页
第七章 总结与展望第74-76页
   ·研究总结第74页
   ·工作展望第74-76页
参考文献第76-81页
攻读学位期间取得的学术成果第81-82页
致谢第82-83页

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