二氧化钛及其复合薄膜光催化降解性能研究
| 摘 要 | 第1-6页 |
| Abstract(英文摘要) | 第6-11页 |
| 第一章 引言 | 第11-32页 |
| ·TiO2光催化原理及特点 | 第11-13页 |
| ·TiO2薄膜的制备方法 | 第13-20页 |
| ·中频交流磁控溅射法 | 第14-16页 |
| ·溅射工艺参数对TiO2薄膜性能的影响 | 第16-20页 |
| ·TiO2薄膜光催化效率的影响因素 | 第20-24页 |
| ·提高TiO2薄膜光催化效率的途径 | 第24-27页 |
| ·贵金属复合 | 第24-25页 |
| ·氧化物半导体复合 | 第25-26页 |
| ·TiO2-xNx复合薄膜及可见光光催化 | 第26-27页 |
| ·TiO2及其复合薄膜光生亲水性 | 第27-30页 |
| ·TiO2薄膜光生亲水性 | 第27-28页 |
| ·半导体复合对TiO2薄膜亲水性的影响 | 第28-30页 |
| ·研究方案 | 第30-32页 |
| ·问题的提出 | 第30页 |
| ·主要研究内容 | 第30-31页 |
| ·技术路线 | 第31-32页 |
| 第二章 实验方法及检测仪器 | 第32-38页 |
| ·磁控溅射设备 | 第32-33页 |
| ·基体材料及化学试剂 | 第33-34页 |
| ·光催化降解实验 | 第34-36页 |
| ·薄膜性能检测仪器 | 第36-38页 |
| 第三章 TiO2薄膜制备及工艺参数优化 | 第38-59页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·溅射方式的选择 | 第39-46页 |
| ·纯O2反应溅射 | 第39-42页 |
| ·Ar/O2混合气体反应溅射 | 第42-46页 |
| ·工艺参数对TiO2薄膜性能的影响 | 第46-57页 |
| ·基体温度 | 第46-48页 |
| ·退火温度 | 第48-53页 |
| ·TiO2薄膜厚度 | 第53-56页 |
| ·基体材料 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 TiO2薄膜性能及光催化特性 | 第59-94页 |
| ·引言 | 第59-60页 |
| ·TiO2薄膜性能测试 | 第60-67页 |
| ·TiO2薄膜成分 | 第60-61页 |
| ·TiO2薄膜结构及形貌 | 第61-63页 |
| ·TiO2薄膜硬度及结合力 | 第63-65页 |
| ·TiO2薄膜的光学性能 | 第65-67页 |
| ·影响TiO2薄膜光催化特性的因素 | 第67-75页 |
| ·亚甲基蓝溶液浓度和量 | 第67-69页 |
| ·紫外光源和反应系统 | 第69-73页 |
| ·紫外辐照强度 | 第73-75页 |
| ·TiO2薄膜对各类有机物的降解效果 | 第75-92页 |
| ·亚甲基蓝 | 第75-80页 |
| ·甲基橙 | 第80-84页 |
| ·敌敌畏 | 第84-86页 |
| ·气体有机污染物 | 第86-90页 |
| ·TiO2薄膜性能的对比 | 第90-92页 |
| ·本章小结 | 第92-94页 |
| 第五章 TiO2复合薄膜制备及光催化性能 | 第94-123页 |
| ·引言 | 第94-95页 |
| ·Ag/TiO2复合薄膜 | 第95-100页 |
| ·ZrO2/TiO2及TiO2/ZrO2复合薄膜 | 第100-106页 |
| ·SnO2/TiO2复合薄膜 | 第106-109页 |
| ·Mo/TiO2及TiO2: Mo复合薄膜 | 第109-122页 |
| ·本章小结 | 第122-123页 |
| 第六章 亲水性研究及光催化机理探索 | 第123-143页 |
| ·TiO2及其复合薄膜光生亲水性 | 第123-132页 |
| ·接触角测量结果 | 第123-128页 |
| ·防结雾实验 | 第128-131页 |
| ·小节 | 第131-132页 |
| ·TiO2薄膜光催化机理的物理模型初探 | 第132-143页 |
| ·半导体光催化原理 | 第133-136页 |
| ·TiO2薄膜具有良好光催化能力的条件 | 第136-141页 |
| ·小节 | 第141-143页 |
| 第七章 结 论 | 第143-144页 |
| 参考文献 | 第144-153页 |
| 致谢及声明 | 第153-155页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果及发表的论文 | 第155-156页 |
