| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·低介电常数材料的研究背景 | 第7-9页 |
| ·本课题组的SiCOH 薄膜研究主要进展 | 第9-10页 |
| ·本文的研究内容 | 第10-11页 |
| 第二章 SiCOH 薄膜的制备、刻蚀及表征方法 | 第11-18页 |
| ·SiCOH 薄膜的制备方法 | 第11-13页 |
| ·微波ECR-CVD 沉积系统 | 第11-12页 |
| ·实验参数 | 第12-13页 |
| ·SiCOH 薄膜的刻蚀方法 | 第13-14页 |
| ·双频电容耦合等离子体系统（DF-CCP） | 第13-14页 |
| ·实验参数 | 第14页 |
| ·SiCOH 薄膜结构的傅立叶变换红外光谱表征方法 | 第14-16页 |
| ·SiCOH 薄膜成份的X 射线光电子能谱（XPS）分析 | 第16-17页 |
| ·放电等离子体的发射光谱（OES）分析 | 第17-18页 |
| 第三章 SiCOH 薄膜的双频等离子体刻蚀特性 | 第18-24页 |
| ·双频电容耦合等离子体中的SiCOH 薄膜刻蚀率 | 第18-20页 |
| ·双频电容耦合等离子体刻蚀薄膜的键结构 | 第20-22页 |
| ·双频电容耦合等离子体刻蚀薄膜结构的XPS 分析 | 第22-23页 |
| ·SiCOH 薄膜双频等离子体刻蚀机制分析 | 第23-24页 |
| 第四章 CHF_3双频电容耦合放电等离子体分析 | 第24-31页 |
| ·13.56MHZ/2MHZ DF-CCP 中的碳氟基团分析 | 第25-28页 |
| ·27.12MHZ/2MHZ DF-CCP 中的碳氟基团分析 | 第28页 |
| ·60MHZ/2MHZ DF-CCP 中的碳氟基团分析 | 第28-31页 |
| 第五章 结论 | 第31-32页 |
| ·本文的主要结果 | 第31页 |
| ·存在的主要问题和进一步研究方向 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-34页 |
| 攻读学位期间公开发表论文、论著 | 第34-35页 |
| 致谢 | 第35-36页 |
| 详细摘要 | 第36-38页 |
