磁控溅射法制备ZnO薄膜及特性研究

摘要	第1-6页
ABSTRACT	第6-10页
第1章 绪论	第10-14页
·课题背景	第10页
·ZnO 透明薄膜的国内外研究进展	第10-12页
·本课题研究的目的和意义	第12-13页
·本课题研究内容	第13-14页
第2章 ZnO 透明薄膜的理论基础及制备方法	第14-27页
·薄膜材料概述	第14-15页
·ZnO 的晶体结构与缺陷	第15-18页
·ZnO 的晶体结构	第16-17页
·ZnO 的缺陷	第17-18页
·ZnO 薄膜的发光机制	第18-19页
·ZnO 薄膜的制备方法及应用	第19-26页
·ZnO 薄膜的制备方法	第19-22页
·ZnO 透明导电薄膜的应用	第22-26页
·本章小结	第26-27页
第3章 磁控溅射法制备ZnO 薄膜	第27-33页
·磁控溅射的原理	第27-30页
·ZnO 薄膜的制备	第30-32页
·实验设备	第30-31页
·基片的清洗	第31页
·薄膜的制备	第31-32页
·薄膜的退火处理	第32页
·本章小结	第32-33页
第4章 ZnO 薄膜的测试及实验结果分析	第33-48页
·ZnO 透明薄膜的测试	第33-39页
·ZnO 透明薄膜光学性能的测定	第33-36页
·ZnO 透明薄膜的结构分析	第36-38页
·ZnO 透明薄膜的表面形貌观察和分析	第38-39页
·ZnO 透明薄膜的测试结果分析	第39-47页
·ZnO 透明薄膜的成分	第39-40页
·透射谱分析	第40-41页
·光致发光谱分析	第41-43页
·退火处理对薄膜结晶程度和表面形貌的影响	第43-47页
·本章小结	第47-48页
结论	第48-49页
参考文献	第49-53页
攻读硕士学位期间发表的学术论文	第53-54页
致谢	第54页