化学水浴法制备ZnS薄膜的结构及光学性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| ·课题背景及意义 | 第9页 |
| ·ZnS薄膜的国内外研究现状 | 第9-15页 |
| ·ZnS薄膜的制备方法 | 第9-13页 |
| ·水浴法制备ZnS薄膜的研究现状 | 第13-15页 |
| ·ZnS薄膜研究存在的主要问题 | 第15页 |
| ·本论文主要目的和研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 ZnS薄膜沉积机理和实验方法 | 第17-25页 |
| ·沉积机理 | 第17-18页 |
| ·实验装置 | 第18-19页 |
| ·实验材料 | 第19-20页 |
| ·工艺流程 | 第20-22页 |
| ·表征手段 | 第22-23页 |
| ·物相分析 | 第22页 |
| ·表面形貌和成分分析 | 第22页 |
| ·透过率测试 | 第22-23页 |
| ·薄膜厚度与禁带宽度分析 | 第23页 |
| ·本章小结 | 第23-25页 |
| 第3章 工艺参数对薄膜性能的影响及优化 | 第25-52页 |
| ·TSC浓度对薄膜性能的影响 | 第25-33页 |
| ·表面形貌分析 | 第25-26页 |
| ·成分分析 | 第26-28页 |
| ·物相分析 | 第28-31页 |
| ·透过率分析 | 第31-32页 |
| ·禁带宽度分析 | 第32-33页 |
| ·ZnSO_4浓度对薄膜性能的影响 | 第33-35页 |
| ·表面形貌分析 | 第33-34页 |
| ·透过率分析 | 第34-35页 |
| ·SC(NH_2)_2浓度对薄膜性能的影响 | 第35-37页 |
| ·表面形貌分析 | 第36-37页 |
| ·透过率分析 | 第37页 |
| ·温度对薄膜性能的影响 | 第37-41页 |
| ·薄膜厚度分析 | 第38-39页 |
| ·表面形貌分析 | 第39-40页 |
| ·透过率分析 | 第40-41页 |
| ·禁带宽度分析 | 第41页 |
| ·沉积时间对薄膜的影响 | 第41-46页 |
| ·薄膜厚度分析 | 第42-43页 |
| ·表面形貌分析 | 第43-44页 |
| ·物相分析 | 第44-45页 |
| ·透过率分析 | 第45-46页 |
| ·禁带宽度分析 | 第46页 |
| ·工艺参数的优化 | 第46-50页 |
| ·表面形貌分析 | 第47-48页 |
| ·透过率分析 | 第48-49页 |
| ·禁带宽度分析 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
