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基于0.13微米CMOS工艺抗辐射加固单元库设计及验证

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
缩略语对照表第10-13页
第一章 绪论第13-19页
    1.1 需求背景第13-15页
        1.1.1 总体需求背景第13页
        1.1.2 卫星需求第13-14页
        1.1.3 战略武器需求第14-15页
        1.1.4 建设0.13μm抗辐射加固库的必要性第15页
    1.2 国外研究现状第15-16页
    1.3 国内研究现状第16-17页
    1.4 主要研究内容第17-18页
    1.5 结构安排第18页
    1.6 本章小结第18-19页
第二章 抗辐射加固设计第19-37页
    2.1 防护总剂量效应设计第19-23页
    2.2 防护单粒子闩锁设计第23-24页
    2.3 防护单粒子翻转设计第24-30页
    2.4 防护单粒子瞬态设计第30-32页
    2.5 仿真验证第32-36页
    2.6 本章小结第36-37页
第三章 0.13μm单元库的设计和验证第37-51页
    3.1 单元选择第38页
    3.2 抗辐射设计手段和指标第38-40页
    3.3 单元基本参数选择第40-42页
        3.3.1 单元电路原理第40-41页
        3.3.2 版图模板第41-42页
    3.4 单元库绘制和参数提取第42-45页
        3.4.1 单元版图绘制第42页
        3.4.2 LIB库第42-44页
        3.4.3 ASIC后端数据库编制第44-45页
    3.5 测试芯片设计和流片验证第45-49页
        3.5.1 验证电路设计第46-47页
        3.5.2 验证结果第47-49页
    3.6 本章小结第49-51页
第四章 单元库的实现第51-123页
    4.1 EDA视图准备第51-64页
    4.2 单元后仿真网表第64-73页
    4.3 单元参数化第73-107页
    4.4 物理库第107-121页
    4.5 本章小结第121-123页
第五章 结论和展望第123-125页
    5.1 研究结论第123页
    5.2 研究展望第123页
    5.3 本章小结第123-125页
参考文献第125-127页
致谢第127-129页
作者简介第129-130页

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