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低维半导体材料光吸收性质的理论研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第12-31页
    1.1 引言第12-13页
    1.2 典型二维材料第13-18页
        1.2.1 典型二维材料的晶体和电子结构第13-17页
        1.2.2 典型二维材料的光学性质第17-18页
    1.3 二维拓扑绝缘体第18-23页
        1.3.1 量子自旋霍尔效应第18-20页
        1.3.2 二维拓扑绝缘体第20-21页
        1.3.3 HgTe/CdTe量子阱结构和Bernevig-Hughes-Zhang (BHZ)模型第21-23页
    1.4 本文主要研究内容第23-25页
    参考文献第25-31页
第二章 理论基础第31-53页
    2.1 k·p有效质量理论第31-40页
        2.1.1 k·p方法简介第31-32页
        2.1.2 k·p方程第32-34页
        2.1.3 简单能带k·p理论第34-36页
        2.1.4 简并能带k·p理论(Kane四带模型)第36-40页
    2.2 吸收系数推导第40-51页
        2.2.1 费米黄金定则法第40-43页
        2.2.2 密度矩阵法第43-51页
    参考文献第51-53页
第三章 电场驱动Hg_(1-x)Cd_xTe/CdTe量子阱拓扑相变引致的光吸收增强第53-64页
    3.1 引言第53-54页
    3.2 理论模型第54-56页
    3.3 八带计算结果分析第56-60页
        3.3.1 电场驱动CdTe/Hg_(1-x)Cd_xTe/CdTe量子阱拓扑相变第56-57页
        3.3.2 拓扑相变引致的光吸收增强第57-60页
    3.4 Bernevig-Hughes-Zhang (BHZ)模型吸收系数解析计算和分析第60页
    3.5 本章小结第60-62页
    参考文献第62-64页
第四章 二维材料光吸收的一般性考虑第64-82页
    4.1 引言第64-65页
    4.2 理论模型第65-70页
        4.2.1 吸收系数的一般形式第65-67页
        4.2.2 二维材料的低能有效哈密顿量第67-70页
    4.3 结果讨论第70-78页
        4.3.1 直接带隙带边吸收率和普适吸收第70-72页
        4.3.2 二维各向同性能带结构材料的吸收系数第72-74页
        4.3.3 二维材料能带各项异性和能带扭曲的影响第74-78页
    4.4 本章小结第78-79页
    参考文献第79-82页
第五章 总结与展望第82-84页
附录 硕士期间科研成果第84-85页
致谢第85页

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