| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 膜分离技术 | 第9页 |
| 1.1.1 膜分离的特点 | 第9页 |
| 1.2 纳滤膜技术概述 | 第9-13页 |
| 1.2.1 纳滤膜材料 | 第10-11页 |
| 1.2.2 纳滤膜的制备技术 | 第11-12页 |
| 1.2.3 纳滤膜的应用及前景 | 第12-13页 |
| 1.3 纳米材料在膜材料中的应用 | 第13-18页 |
| 1.3.1 纳米材料的发展 | 第13页 |
| 1.3.2 聚合膜的进展 | 第13-18页 |
| 第二章 PMIA纳滤膜的制备 | 第18-25页 |
| 2.1 实验材料 | 第18页 |
| 2.2 实验设备和仪器 | 第18-19页 |
| 2.3 PMIA纳滤膜的制备 | 第19页 |
| 2.4 膜性能测试 | 第19-20页 |
| 2.5 结果与讨论 | 第20-24页 |
| 2.5.1 聚合物浓度对PMIA纳滤膜结构和性能的影响 | 第20-21页 |
| 2.5.2 无机添加剂对PMIA纳滤膜结构和性能的影响 | 第21-23页 |
| 2.5.3 蒸发时间对PMIA纳滤膜结构和性能的影响 | 第23-24页 |
| 2.6 本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 PMIA/GO复合纳滤膜的制备及表征 | 第25-37页 |
| 3.1 实验材料 | 第25页 |
| 3.2 实验设备和仪器 | 第25-26页 |
| 3.3 GO/PMIA复合膜的制备 | 第26-27页 |
| 3.4 膜性能测试 | 第27-29页 |
| 3.4.1 氧化石墨烯表征 | 第27页 |
| 3.4.2 X射线光电子能谱分析(XPS)表征 | 第27页 |
| 3.4.3 膜的形貌表征(SEM) | 第27页 |
| 3.4.4 膜的亲疏水性测定 | 第27-28页 |
| 3.4.5 膜表面的粗糙度表征 | 第28页 |
| 3.4.6 膜表面的电荷性 | 第28页 |
| 3.4.7 膜性能测试 | 第28-29页 |
| 3.4.8 膜的抗污染性 | 第29页 |
| 3.5 结果与讨论 | 第29-36页 |
| 3.5.1 氧化石墨烯的表征 | 第29-30页 |
| 3.5.2 膜的化学性能 | 第30页 |
| 3.5.3 膜的形貌结构表征 | 第30-33页 |
| 3.5.4 膜的亲疏水性分析 | 第33页 |
| 3.5.5 Zeta电位分析 | 第33-34页 |
| 3.5.6 膜通量 | 第34-35页 |
| 3.5.7 膜的分离性能 | 第35页 |
| 3.5.8 膜的抗污染性能 | 第35-36页 |
| 3.6 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 PMIA/GO复合膜在印染废水中的应用 | 第37-45页 |
| 4.1 印染废水概述 | 第37页 |
| 4.2 实验材料与方法 | 第37-40页 |
| 4.2.1 实验材料 | 第37-39页 |
| 4.2.2 实验方法 | 第39-40页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第40-43页 |
| 4.3.1 操作压力对膜去除染料的影响 | 第40-41页 |
| 4.3.2 料液浓度对膜去除染料的影响 | 第41-42页 |
| 4.3.3 pH值对膜去除染料的影响 | 第42页 |
| 4.3.4 料液温度对膜去除染料的影响 | 第42-43页 |
| 4.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第五章 总结 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-59页 |
| 在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
