摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
1.前言 | 第9-19页 |
1.1 课题的提出 | 第9页 |
1.2 连作障碍的发生及危害 | 第9-11页 |
1.3 连作障碍产生的原因 | 第11-12页 |
1.3.1 土壤理化性质的劣变 | 第11页 |
1.3.2 土壤微生物的改变 | 第11-12页 |
1.3.3 化感作用 | 第12页 |
1.4 连作障碍的防治方法 | 第12-16页 |
1.4.1 改良作物的品质 | 第12-13页 |
1.4.2 土壤消毒 | 第13-14页 |
1.4.3 平衡施肥 | 第14页 |
1.4.4 无土栽培 | 第14-15页 |
1.4.5 优化栽培方式 | 第15页 |
1.4.6 生物防治 | 第15-16页 |
1.5 生氰糖苷的研究进展 | 第16-18页 |
1.5.1 生氰糖苷的种类及功能 | 第16-17页 |
1.5.2 扁桃苷 | 第17页 |
1.5.3 扁桃苷与连作障碍 | 第17-18页 |
1.5.4 扁桃苷降解菌 | 第18页 |
1.6 本研究的目的及意义 | 第18-19页 |
2.材料与方法 | 第19-25页 |
2.1 试验材料 | 第19页 |
2.2 扁桃苷降解菌的分离、纯化和鉴定 | 第19-20页 |
2.2.1 富集培养 | 第19页 |
2.2.2 扁桃苷降解菌分离及纯化 | 第19-20页 |
2.2.3 降解菌的种属鉴定 | 第20页 |
2.3 五种扁桃苷降解菌生长曲线和降解曲线的绘制 | 第20-21页 |
2.3.1 生长曲线的绘制 | 第20-21页 |
2.3.2 降解曲线的绘制 | 第21页 |
2.4 扁桃苷降解产物毒性测定 | 第21-22页 |
2.4.1 测定方法 | 第21-22页 |
2.4.2 测定指标 | 第22页 |
2.5 扁桃苷降解过程中氢氰根离子浓度测定 | 第22页 |
2.6 WHA-4的生长及降解条件筛选 | 第22-23页 |
2.6.1 不同pH条件 | 第22页 |
2.6.2 不同温度条件 | 第22-23页 |
2.6.3 不同扁桃苷浓度 | 第23页 |
2.6.4 不同外源添加物 | 第23页 |
2.7 WHA-4降解扁桃苷的产物对桃树幼苗生长的影响 | 第23-24页 |
2.8 数据分析 | 第24-25页 |
3.结果与分析 | 第25-41页 |
3.1 扁桃苷降解菌的鉴定 | 第25-28页 |
3.2 扁桃苷降解菌生长曲线和降解曲线的测定 | 第28-30页 |
3.3 扁桃苷的代谢产物毒性测定 | 第30-33页 |
3.4 扁桃苷降解过程中氢氰根离子的浓度变化 | 第33-35页 |
3.5 WHA-4的最适生长条件 | 第35-39页 |
3.5.1 底物浓度对WHA-4生长及降解的影响 | 第35页 |
3.5.2 温度对WHA-4生长及降解的影响 | 第35-36页 |
3.5.3 不同pH对WHA-4生长及降解的影响 | 第36-38页 |
3.5.4 不同添加物对WHA-4生长及降解的影响 | 第38-39页 |
3.6 WHA-4降解扁桃苷的产物对桃树幼苗生长及生物量的影响 | 第39-41页 |
4.讨论 | 第41-44页 |
4.1 扁桃苷的代谢途径 | 第41页 |
4.2 不同条件对WHA-4生长及降解能力的影响 | 第41-42页 |
4.3 扁桃苷降解产物对植物的影响 | 第42-44页 |
参考文献 | 第44-49页 |
附录Ⅰ 课题资助情况 | 第49-50页 |
致谢 | 第50页 |