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III-V族半导体纳米线及轴向异质结构的理论与实验研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
符号说明第11-12页
第一章 绪论第12-21页
    1.1 研究背景和意义第12-13页
    1.2 纳米材料的基本特性第13-16页
        1.2.1 表面效应第13-14页
        1.2.2 量子尺寸效应第14-15页
        1.2.3 量子隧道效应第15页
        1.2.4 库伦阻塞效应第15-16页
    1.3 纳米半导体器件第16-17页
    1.4 论文的结构安排第17-18页
    参考文献第18-21页
第二章 纳米结构制备工艺与表征方法第21-41页
    2.1 半导体纳米线生长第21-25页
        2.1.1 气-液-固(Vapour-liquid-solid,VLS)生长机制第21-23页
        2.1.2 溶液-液-固(Solution-Liquid-Solid,SLS)生长机制第23页
        2.1.3 气-固(Vapour-Solid,VS)生长机制第23-25页
    2.2 半导体材料外延技术第25-31页
        2.2.1 分子束外延(MBE)第25-29页
        2.2.2 金属有机气相外延技术(MOCVD)第29-31页
    2.3 纳米结构的表征技术第31-37页
        2.3.1 扫描电子显微镜技术(SEM)第32-33页
        2.3.2 透射电子显微镜技术(TEM)第33-36页
        2.3.3 光致发光技术(PL)第36-37页
    2.4 本章小结第37-38页
    参考文献第38-41页
第三章 纳米线成核理论概述第41-56页
    3.1 有限尺寸相的状态方程第41-43页
        3.1.1 拉普拉斯方程第41-42页
        3.1.2 吉布斯-托马森方程第42-43页
        3.1.3 尺寸效应对纳米线生长速率的影响第43页
    3.2 母相中均相成核第43-47页
    3.3 衬底上异质成核第47-50页
    3.4 成核速率的一般表述第50-51页
    3.5 稳态成核的晶核浓度第51-53页
    3.6 单模成核、多模成核对纳米线生长速率的影响第53-54页
    3.7 本章小结第54-55页
    参考文献第55-56页
第四章 InP纳米线的生长机理研究第56-73页
    4.1 引言第56-58页
    4.2 衬底的晶体取向效应第58-59页
    4.3 InP(001)衬底金溶胶生长InP纳米线第59-61页
        4.3.1 生长实验方案第60页
        4.3.2 实验结果及讨论第60-61页
    4.4 InP(111)衬底自催化生长InP纳米线第61-66页
        4.4.1 自催化VLS机制及生长参数第61-62页
        4.4.2 生长实验方案第62-63页
        4.4.3 实验结果及分析第63-66页
    4.5 本章小结第66-68页
    参考文献第68-73页
第五章 纳米线异质结的理论与实验研究第73-85页
    5.1 轴向GaAs/InAs纳米线异质结的生长第73-75页
        5.1.1 生长实验方案第73页
        5.1.2 结果及讨论第73-75页
    5.2 轴向GaAs/In_xGa_(1-x)As/GaAs纳米线生长机理研究第75-82页
        5.2.1 生长实验方案第75-76页
        5.2.2 结果及讨论第76-82页
    5.3 本章小结第82-83页
    参考文献第83-85页
第六章 轴向/径向纳米线异质结的应力应变分析第85-107页
    6.1 材料的应力应变及位错的弹性理论第85-94页
        6.1.1 弹性理论基本方程第85-87页
        6.1.2 应力应变的矩阵表示第87-90页
        6.1.3 立方晶系的弹性理论第90-91页
        6.1.4 螺型位错和刃型位错的应变能第91-94页
    6.2 轴向纳米线异质结的临界尺寸第94-98页
    6.3 径向纳米线异质结的临界尺寸第98-103页
    6.4 本章小结第103-104页
    参考文献第104-107页
第七章 总结第107-109页
致谢第109-111页
攻读博士期间发表的学术论文第111页

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