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In掺杂SrCe0.95Tm0.05O3-δ膜的稳定性和透氢量研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第11-29页
    1.1 引言第11-12页
    1.2 钙钛矿质子导体第12-20页
        1.2.1 钙钛矿质子导体的发展第12-13页
        1.2.2 钙钛矿质子导体结构第13-14页
        1.2.3 钙钛矿质子导体透氢机理第14-16页
            1.2.3.1 质子传导机理第14-15页
            1.2.3.2 电子传导机理第15-16页
        1.2.4 钙钛矿质子导体的潜在应用第16-20页
            1.2.4.1 在气体传感器方面的应用第17-18页
            1.2.4.2 在化学反应器方面的应用第18页
            1.2.4.3 在固体电解质燃料电池方面的应用第18-19页
            1.2.4.4 在气体分离和气体制备方面的应用第19-20页
    1.3 混合导体研究进展第20-26页
        1.3.1 单相质子-电子混合导第20-25页
            1.3.1.1 透氢量的提高第20-24页
            1.3.1.2 稳定性的提高第24-25页
        1.3.2 双相质子-电子混合导第25-26页
            1.3.2.1 掺杂金属相第25-26页
            1.3.2.2 掺杂陶瓷相第26页
    1.4 本论文的研究意义和研究内容第26-29页
第二章 实验部分第29-34页
    2.1 研究目的第29页
    2.2 研究内容第29页
    2.3 实验仪器与药品第29-31页
        2.3.1 实验仪器第29-30页
        2.3.2 实验药品第30-31页
    2.4 实验内容第31-34页
        2.4.1 膜片的制备第31页
        2.4.2 粉体以及膜片表征第31-33页
            2.4.2.1 差示扫描量热分析仪第31-32页
            2.4.2.2 X射线衍射分析第32页
            2.4.2.3 扫描电子显微镜第32页
            2.4.2.4 Archimede法测量密度第32-33页
        2.4.3 膜片的性能第33-34页
            2.4.3.1 稳定性试验第33页
            2.4.3.2 氢气渗透实验第33-34页
第三章 In掺杂的SCTm膜制备及表征第34-47页
    3.1 前言第34-35页
    3.2 实验部分第35页
    3.3 前驱体的焙烧工艺第35-39页
    3.4 粉体的结构与形貌第39页
    3.5 膜片的表征第39-45页
        3.5.1 In掺杂量的影响第39-43页
        3.5.2 烧结温度对膜片的影响第43-44页
        3.5.3 烧结时间对膜片的影响第44-45页
    3.6 本章小结第45-47页
第四章 In掺杂的SCTm膜片的稳定性及透氢量第47-57页
    4.1 前言第47页
    4.2 实验部分第47-48页
    4.3 In的掺杂对SCITm膜片的稳定性的影响第48-52页
        4.3.1 膜片在沸水中的稳定性第48-50页
        4.3.2 膜片在CO_2中的稳定性第50-52页
    4.4 In的掺杂对SCITm膜透氢量的影响第52-55页
    4.5 结论第55-57页
结论与展望第57-60页
    结论第57-58页
    展望第58-60页
参引文献第60-70页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第70-71页
致谢第71-72页
附件第72页

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