| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 前言 | 第9-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-40页 |
| 1.1 纳米材料与湿度传感器 | 第12-14页 |
| 1.1.1 纳米材料 | 第12页 |
| 1.1.2 纳米材料与传感器 | 第12-13页 |
| 1.1.3 湿度传感器 | 第13-14页 |
| 1.1.4 纳米材料在湿度传感器上的应用原理 | 第14页 |
| 1.2 多孔硅 | 第14-27页 |
| 1.2.1 多孔硅的研究历史 | 第14-16页 |
| 1.2.2 多孔硅的制备 | 第16-19页 |
| 1.2.3 多孔硅的应用 | 第19-20页 |
| 1.2.4 多孔硅传感器 | 第20-27页 |
| 1.3 氧化锌 | 第27-28页 |
| 1.3.1 氧化锌气体传感器 | 第27页 |
| 1.3.2 氧化锌湿度传感器 | 第27-28页 |
| 1.4 氧化铝湿度传感器 | 第28-33页 |
| 1.4.1 涂膜状氧化铝湿度传感器 | 第29页 |
| 1.4.2 多孔氧化铝湿度传感器 | 第29-31页 |
| 1.4.3 硅MOS型氧化铝湿度传感器 | 第31-33页 |
| 参考文献 | 第33-40页 |
| 第二章 纳米ZnO的湿敏性能研究 | 第40-55页 |
| 2.1 引言 | 第40-41页 |
| 2.1.1 湿度传感器的重要性 | 第40页 |
| 2.1.2 ZnO湿度传感器的优点 | 第40页 |
| 2.1.3 ZnO薄膜湿度传感器的研究现状及研究意义 | 第40-41页 |
| 2.2 实验过程 | 第41-43页 |
| 2.2.1 材料制备 | 第41页 |
| 2.2.2 器件制作 | 第41-42页 |
| 2.2.3 测量仪器 | 第42-43页 |
| 2.3 实验结果 | 第43-50页 |
| 2.3.1 涂布膜型纳米ZnO湿敏元件的湿敏特性 | 第44-49页 |
| 2.3.2 烧结型纳米ZnO湿敏元件的湿敏特性 | 第49-50页 |
| 2.4 感湿机理探讨 | 第50-52页 |
| 2.4.1 纳米ZnO薄膜湿敏元件 | 第50页 |
| 2.4.2 ZNO烧结陶瓷湿敏元件 | 第50-52页 |
| 2.5 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 第三章 纳米多孔氧化铝湿度传感器的研究 | 第55-72页 |
| 3.1 引言 | 第55页 |
| 3.2 实验过程 | 第55-56页 |
| 3.2.1 纳米多孔Al_2O_3的制备 | 第55页 |
| 3.2.2 器件的制作 | 第55-56页 |
| 3.2.3 测试仪器 | 第56页 |
| 3.3 实验结果 | 第56-61页 |
| 3.3.1 频率特性 | 第56-57页 |
| 3.3.2 阻湿特性 | 第57-58页 |
| 3.3.3 容湿特性 | 第58页 |
| 3.3.4 复阻抗特性 | 第58-59页 |
| 3.3.5 稳定性 | 第59-61页 |
| 3.3.6 响应一恢复特性 | 第61页 |
| 3.4 感湿机理探讨 | 第61-66页 |
| 3.4.1 纳米多孔Al_2O_3的结构 | 第61页 |
| 3.4.2 纳米多孔Al_2O_3的等效电路 | 第61-63页 |
| 3.4.3 等效电路图的简化 | 第63-64页 |
| 3.4.4 等效电路与科尔-科尔图 | 第64-65页 |
| 3.4.5 等效电路与阻湿、容湿特性 | 第65-66页 |
| 3.4.6 感湿机理 | 第66页 |
| 3.5 其它 | 第66-69页 |
| 3.5.1 阻湿特性 | 第66-67页 |
| 3.5.2 复阻抗 | 第67-69页 |
| 3.6 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 第四章 KOH后处理对多孔硅湿度传感器性能的影响 | 第72-81页 |
| 4.1 引言 | 第72页 |
| 4.2 实验过程 | 第72-73页 |
| 4.2.1 多孔硅的制备 | 第72页 |
| 4.2.2 器件的制作 | 第72页 |
| 4.2.3 测试仪器 | 第72-73页 |
| 4.3 实验结果 | 第73-76页 |
| 4.3.1 多孔硅形貌 | 第73-74页 |
| 4.3.2 湿敏性能 | 第74-76页 |
| 4.4 机理探讨 | 第76-77页 |
| 4.5 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-81页 |
| 第五章 KOH处理后多孔硅的Ⅰ-Ⅴ特性研究 | 第81-92页 |
| 5.1 前言 | 第81页 |
| 5.2 实验过程 | 第81-82页 |
| 5.2.1 多孔硅的制备 | 第82页 |
| 5.2.2 器件的制作 | 第82页 |
| 5.2.3 测试设备 | 第82页 |
| 5.3 实验结果 | 第82-86页 |
| 5.3.1 表面形貌 | 第82-83页 |
| 5.3.2 截面形貌 | 第83-84页 |
| 5.3.3 Ⅰ-Ⅴ特性 | 第84-86页 |
| 5.4 机理探讨 | 第86-88页 |
| 5.5 结论 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-92页 |
| 第六章 用纯化学法制备阵列化纳米硅结构 | 第92-103页 |
| 6.1 引言 | 第92页 |
| 6.2 实验过程 | 第92-93页 |
| 6.2.1 多孔硅的制备 | 第93页 |
| 6.2.2 、 样品的制备 | 第93页 |
| 6.2.3 、 实验仪器 | 第93页 |
| 6.3 实验结果 | 第93-96页 |
| 6.4 机理探讨 | 第96-99页 |
| 6.5 性质测试 | 第99-100页 |
| 6.6 结论 | 第100-101页 |
| 参考文献 | 第101-103页 |
| 第七章 总结 | 第103-104页 |
| 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105页 |