| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-59页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 半导体光电催化分解水的研究进展 | 第13-22页 |
| 1.2.1 半导体光电催化反应的原理 | 第13-16页 |
| 1.2.2 半导体光电催化反应的研究进展 | 第16-22页 |
| 1.3 二维纳米材料结构与性质的理论研究 | 第22-31页 |
| 1.3.1 第一性原理简介 | 第22-28页 |
| 1.3.2 二维纳米材料的第一性原理计算 | 第28-31页 |
| 1.4 二维纳米材料在光电催化分解水中的研究进展 | 第31-41页 |
| 1.4.1 二维纳米材料的合成方法 | 第31-32页 |
| 1.4.2 二维纳米材料电子结构的调控 | 第32-36页 |
| 1.4.3 二维纳米材料在光电催化分解水中的应用 | 第36-41页 |
| 1.5 电催化还原二氧化碳的研究进展 | 第41-49页 |
| 1.5.1 二氧化碳还原的动力学研究 | 第41-43页 |
| 1.5.2 二氧化碳还原的研究进展 | 第43-49页 |
| 1.6 本论文的选题背景和研究内容 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-59页 |
| 第2章 富含氧空位的超薄氧化铟多孔纳米片的合成与光电催化性能研究 | 第59-77页 |
| 2.1 引言 | 第59-60页 |
| 2.2 第一性原理计算的预测 | 第60-62页 |
| 2.3 实验部分 | 第62-64页 |
| 2.3.1 样品的制备 | 第62-63页 |
| 2.3.2 产物的表征方法 | 第63页 |
| 2.3.3 光电催化性能的测试方法 | 第63-64页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第64-72页 |
| 2.4.1 产物的合成机理及表征 | 第64-68页 |
| 2.4.2 氧空位浓度的表征 | 第68-69页 |
| 2.4.3 氧空位浓度与光电催化活性构效关系的研究 | 第69-72页 |
| 2.5 本章小结 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 第3章 局限在原子级厚二维片中的掺杂对光电催化性能的影响 | 第77-95页 |
| 3.1 引言 | 第77-78页 |
| 3.2 第一性原理计算的预测 | 第78-80页 |
| 3.3 实验部分 | 第80-83页 |
| 3.3.1 样品的制备 | 第80-81页 |
| 3.3.2 产物的表征方法 | 第81页 |
| 3.3.3 超快瞬态吸收光谱的测试方法 | 第81-82页 |
| 3.3.4 光电催化性能的测试方法 | 第82-83页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第83-91页 |
| 3.4.1 Co掺杂三原子层厚硫化铟二维片的合成机理及表征 | 第83-86页 |
| 3.4.2 对比材料的表征 | 第86-87页 |
| 3.4.3 光电催化性能的测试 | 第87-91页 |
| 3.5 本章小结 | 第91-93页 |
| 参考文献 | 第93-95页 |
| 第4章 限域在石墨烯中锡量子片的合成及其电还原CO_2性能的研究 | 第95-107页 |
| 4.1 引言 | 第95-96页 |
| 4.2 实验部分 | 第96-97页 |
| 4.2.1 样品的制备 | 第96-97页 |
| 4.2.2 产物的表征方法 | 第97页 |
| 4.2.3 电化学测试方法 | 第97页 |
| 4.4 分析与讨论 | 第97-104页 |
| 4.4.1 限域在石墨烯中的锡量子片的合成机理及表征 | 第98-99页 |
| 4.4.2 对比材料的表征 | 第99-100页 |
| 4.4.3 XAFS的分析 | 第100-101页 |
| 4.4.4 电化学还原CO_2的性能测试 | 第101-104页 |
| 4.5 本章小结 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-107页 |
| 攻读博士期间发表的学术论文及所获奖励 | 第107-109页 |
| 致谢 | 第109-110页 |
