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过渡金属氧族化合物半导体的光电特性研究

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第1章 绪论第13-33页
    1.1 课题研究背景及选题意义第13-16页
    1.2 相关领域几种热门材料的研究现状第16-30页
        1.2.1 P型ZnO的研究进展第16-23页
        1.2.2 黑色TiO_2在光催化及微波吸收领域的应用第23-27页
        1.2.3 半导体中子探测器简介第27-30页
    1.3 论文主要研究内容第30-33页
第2章 半导体薄膜与纳米粒子制备技术第33-45页
    2.1 分子束外延技术第33-39页
        2.1.1 分子束外延设备简介第34页
        2.1.2 分子束外延生长薄膜基本物理过程第34-36页
        2.1.3 等离子体辅助的分子束外延设备第36-39页
    2.2 激光烧蚀技术第39-43页
        2.2.1 气相介质中激光烧蚀靶材第40-41页
        2.2.2 液相介质中激光烧蚀靶材第41-43页
    2.3 本章小结第43-45页
第3章 第一性原理计算理论基础第45-71页
    3.1 密度泛函理论第45-63页
        3.1.1 Born-oppenheimer近似第46-47页
        3.1.2 Hartree-Fock近似第47-49页
        3.1.3 Hohenberg-Kohn定理第49-50页
        3.1.4 Kohn-sham方程第50-51页
        3.1.5 交换关联泛函第51-53页
        3.1.6 强关联体系DFT+U第53-54页
        3.1.7 多体微扰理论-GW近似第54-62页
        3.1.8 杂化密度泛函第62-63页
    3.2 能带的计算方法第63-70页
        3.2.1 平面波基组第63-66页
        3.2.2 赝势方法第66-67页
        3.2.3 投影缀加波方法第67-70页
    3.3 本章小结第70-71页
第4章 极化诱导制备氮掺杂P型ZnO第71-83页
    4.1 引言第71-74页
    4.2 实验结果第74-81页
        4.2.1 氧锌镁体系极化诱导分析第74-76页
        4.2.2 材料的生长与表征第76-77页
        4.2.3 pn结器件制备与电学特性表征第77-79页
        4.2.4 pn结光伏器件的光响应及发光特性第79-81页
    4.3 本章小结第81-83页
第5章 黑色二氧化钛微波吸收机理第83-93页
    5.1 引言第83-84页
    5.2 实验结果第84-89页
        5.2.1 脉冲激光烧蚀制备无序TiO_2第84-85页
        5.2.2 脉冲激光烧蚀前后TiO_2纳米粒子结构表征第85-87页
        5.2.3 脉冲激光烧蚀合成无序TiO_2过程分析第87页
        5.2.4 脉冲激光烧蚀前后TiO_2纳米粒子的电磁特性第87-89页
    5.3 理论模拟结果第89-91页
    5.4 本章小结第91-93页
第6章 钆硫属化合物能带结构:中子探测材料预测第93-109页
    6.1 引言第93-94页
    6.2 计算方法与细节第94-95页
    6.3 结果与讨论第95-107页
        6.3.1 Gd_2X_3的结构特性第95-100页
        6.3.2 Gd_2X_3的能带结构第100-104页
        6.3.3 Gd_2X_3的有效质量第104-107页
    6.4 本章小结第107-109页
第7章 结论与展望第109-111页
    7.1 论文工作总结第109页
    7.2 后续工作展望第109-111页
参考文献第111-133页
在学期间学术成果情况第133-135页
指导教师及作者简介第135-137页
致谢第137-138页

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