| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 1 绪论 | 第9-14页 |
| ·钕铁硼氢粉碎工艺综述 | 第9-11页 |
| ·钕铁硼氢粉碎工艺控制现状 | 第11-12页 |
| ·国外钕铁硼氢粉碎设备现状 | 第11-12页 |
| ·国内钕铁硼氢粉碎计算机控制现状 | 第12页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第12-13页 |
| ·课题提出的目的 | 第12页 |
| ·课题提出的意义 | 第12-13页 |
| ·本章小结 | 第13-14页 |
| 2 钕铁硼氢粉碎工艺计算机控制系统研究的技术路线 | 第14-17页 |
| ·系统研究的技术路线 | 第14-16页 |
| ·本章小结 | 第16-17页 |
| 3 神经网络技术在钕铁硼氢粉碎工艺中的应用 | 第17-30页 |
| ·神经网络概述 | 第17-18页 |
| ·神经网络结构 | 第18-21页 |
| ·BP 神经网络结构 | 第18页 |
| ·RBF 神经网络结构 | 第18-20页 |
| ·RBF 神经网络和BP 神经网络的比较 | 第20-21页 |
| ·基于神经网络的钕铁硼氢粉碎工艺中氢含量的预报模型 | 第21-28页 |
| ·基于RBF 神经网络的钕铁硼氢粉碎工艺预测模型 | 第21-22页 |
| ·数据的预处理 | 第22-23页 |
| ·神经网络模型的建立及其Matlab 仿真 | 第23-27页 |
| ·基于RBF 神经网络的钕铁硼氢粉碎工艺预测模型预测氢含量 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-30页 |
| 4 控制系统硬件设计 | 第30-46页 |
| ·控制系统硬件总体结构 | 第30-31页 |
| ·可编程控制器核心控制模块 | 第31-35页 |
| ·可编程控制器 | 第31-33页 |
| ·PLC 选型 | 第33-34页 |
| ·控制系统PLC 的I/O 存储地址分配 | 第34-35页 |
| ·温度控制器及其选型 | 第35-37页 |
| ·温度控制器和PLC 的集成 | 第35-36页 |
| ·温度控制器的选型 | 第36-37页 |
| ·触摸屏及其选型 | 第37-40页 |
| ·触摸屏和PLC 的集成 | 第37-39页 |
| ·触摸屏的选型 | 第39-40页 |
| ·其他设备的选型 | 第40页 |
| ·控制系统硬件电路图 | 第40-45页 |
| ·控制系统主回路设计 | 第40-42页 |
| ·输入、输出回路设计 | 第42-44页 |
| ·PLC 和温度控制器的接口电路设计 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 5 系统软件设计 | 第46-61页 |
| ·软件总体设计思路 | 第46页 |
| ·基于西门子S7-200PLC 的软件编程 | 第46-51页 |
| ·STEP 7-Micro/WIN 软件与编程方法 | 第46-47页 |
| ·系统控制程序设计 | 第47-50页 |
| ·系统数据采集程序设计 | 第50-51页 |
| ·基于WinCC 的上位机界面设计 | 第51-54页 |
| ·WinCC 概述 | 第51页 |
| ·上位机界面 | 第51-52页 |
| ·PLC 和WinCC 通信 | 第52-54页 |
| ·基于OPC 的实时数据交换设计 | 第54-55页 |
| ·OPC 技术概述 | 第54页 |
| ·基于OPC 的实时数据交换的实现 | 第54-55页 |
| ·触摸屏界面设计 | 第55-60页 |
| ·触摸屏的串口通讯 | 第55-56页 |
| ·西门子PLC 和迪文触摸屏的通信 | 第56-59页 |
| ·触摸屏界面的制作 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 附录A 控制部分程序 | 第65-71页 |
| 附录B 数据采集程序 | 第71-73页 |
| 附录C PLC 和触摸屏通信程序 | 第73-75页 |
| 附录D 算法程序代码 | 第75-77页 |
| 在学研究成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
