一种新型氢化物气相外延设备的研究和设计
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 概述 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-15页 |
| 1.3 应用前景 | 第15-16页 |
| 1.4 研究内容和论文安排 | 第16-18页 |
| 2 MOCVD系统构成 | 第18-25页 |
| 2.1 外延技术 | 第18-19页 |
| 2.2 MOCVD技术原理 | 第19-21页 |
| 2.3 MOCVD系统构成 | 第21-22页 |
| 2.4 规模化生产的MOCVD腔体特点 | 第22-23页 |
| 2.5 本章小结 | 第23-25页 |
| 3 HVPE系统构成 | 第25-32页 |
| 3.1 HVPE原理 | 第25-26页 |
| 3.2 HVPE系统结构 | 第26-29页 |
| 3.3 HVPE系统运行过程 | 第29-30页 |
| 3.4 现有HVPE设备结构特点 | 第30页 |
| 3.5 HVPE生长GaN薄膜的衬底剥离 | 第30-31页 |
| 3.6 本章小结 | 第31-32页 |
| 4 新型HVPE腔体设计 | 第32-52页 |
| 4.1 生产型HVPE设备研制的必要性 | 第32页 |
| 4.2 加热系统概述 | 第32-33页 |
| 4.3 热量传递的基本形式 | 第33-34页 |
| 4.4 加热系统设计 | 第34-43页 |
| 4.5 石墨盘设计 | 第43-44页 |
| 4.6 加热片与石墨盘的间距设计 | 第44-45页 |
| 4.7 镓舟结构设计 | 第45-48页 |
| 4.8 辅助加热系统设计 | 第48-50页 |
| 4.9 HVPE和MOCVD实现流水线式生产 | 第50-51页 |
| 4.10 本章小结 | 第51-52页 |
| 5 HVPE气体输运系统设计 | 第52-58页 |
| 5.1 CVD设备气路系统介绍 | 第52-53页 |
| 5.2 管路流量控制 | 第53-55页 |
| 5.3 进气方式设计 | 第55-56页 |
| 5.4 反应腔体压力控制 | 第56-57页 |
| 5.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 6 总结及展望 | 第58-60页 |
| 6.1 本文总结 | 第58页 |
| 6.2 展望 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 附录 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第65页 |
