AZ51镁合金的低电压微弧氧化研究
| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 1 绪论 | 第10-27页 |
| 1.1 镁及其合金的特性与发展现状 | 第10页 |
| 1.2 镁及其合金的性能 | 第10-13页 |
| 1.2.1 镁及其合金的发展现状 | 第11-13页 |
| 1.3 镁及其合金的腐蚀及防护 | 第13-18页 |
| 1.3.1 镁及其合金的主要腐蚀方式 | 第13-15页 |
| 1.3.2 提高镁合金自身耐蚀性方法 | 第15-16页 |
| 1.3.3 镁及其合金的表面处理方法 | 第16-18页 |
| 1.4 微弧氧化技术 | 第18-26页 |
| 1.4.1 微弧氧化发展历程 | 第19-21页 |
| 1.4.2 微弧氧化机理研究 | 第21-23页 |
| 1.4.3 微弧氧化工艺特点及应用 | 第23-25页 |
| 1.4.4 微弧氧化存在问题及发展方向 | 第25-26页 |
| 1.5 本课题主要研究意义 | 第26页 |
| 1.6 本课题主要研究内容 | 第26-27页 |
| 2 实验材料及研究方法 | 第27-31页 |
| 2.1 实验材料及试样制备 | 第27-28页 |
| 2.1.1 AZ51镁合金 | 第27页 |
| 2.1.2 实验试剂 | 第27页 |
| 2.1.3 试样制备 | 第27-28页 |
| 2.2 微弧氧化实验装置 | 第28页 |
| 2.3 实验流程 | 第28-29页 |
| 2.3.1 试样预处理 | 第29页 |
| 2.3.2 配制处理液 | 第29页 |
| 2.3.3 微弧氧化处理 | 第29页 |
| 2.4 实验分析方法及测试 | 第29-30页 |
| 2.4.1 膜层微观形貌分析 | 第29页 |
| 2.4.2 膜层物相组成分析 | 第29-30页 |
| 2.4.3 膜层耐蚀性能研究 | 第30页 |
| 2.5 课题工艺流程 | 第30-31页 |
| 3 工艺参数对镁合金微弧氧化膜层厚度的研究 | 第31-54页 |
| 3.1 微弧氧化膜层制备条件 | 第32-36页 |
| 3.1.1 电源 | 第32页 |
| 3.1.2 电解液 | 第32-33页 |
| 3.1.3 等离子体 | 第33-35页 |
| 3.1.4 实验设计及数据分析 | 第35-36页 |
| 3.2 AZ51微弧氧化膜层结构与相组成 | 第36-40页 |
| 3.2.1 AZ51微弧氧化膜层结构 | 第36-38页 |
| 3.2.2 AZ51微弧氧化膜层的相组成 | 第38-40页 |
| 3.3 工艺参数对AZ51微弧氧化膜层厚度的影响 | 第40-52页 |
| 3.3.1 微弧氧化膜层生长过程 | 第40-41页 |
| 3.3.2 KF浓度对膜层厚度的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.3 KOH浓度对膜层厚度的影响 | 第42-44页 |
| 3.3.4 输出电压值对膜层厚度的影响 | 第44-46页 |
| 3.3.5 处理时间对膜层厚度的影响 | 第46-48页 |
| 3.3.6 处理液温度对膜层厚度的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.7 致密膜层最大厚度 | 第49-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 4 AZ51微弧氧化膜层的耐蚀性能研究 | 第54-64页 |
| 4.1 镁合金微弧氧化膜的电化学测试 | 第54-56页 |
| 4.2 厚度对微弧氧化膜层耐蚀性的影响 | 第56-61页 |
| 4.2.1 致密层厚度对自腐蚀电位的影响 | 第56-58页 |
| 4.2.2 致密层厚度对腐蚀电流密度的影响 | 第58-60页 |
| 4.2.3 沙化层的耐蚀性 | 第60-61页 |
| 4.3 AZ51镁合金制备微弧氧化膜层的最优参数 | 第61-62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 5 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 作者简历 | 第69-71页 |
| 学位论文数据集 | 第71页 |
