首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--一般性问题论文--半导体器件制造工艺及设备论文--晶体机械加工论文

晶圆切割参数对低K介电层可靠性的影响

摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 引言第6-14页
    1.1 切割的基本要求第7-8页
        1.1.1 切割的分类第7页
        1.1.2 目的与作用第7页
        1.1.3 基本原理及实现流程第7-8页
        1.1.4 基本控制要求第8页
    1.2 切割中的异常和缺陷第8-14页
        1.2.1 缺陷的描述及其相关影响第8-12页
        1.2.2 产生缺陷的原因及重要因素第12-14页
第二章 不同材质的芯片对切割的影响第14-18页
    2.1 常规材料对切割产生的影响第14页
        2.1.1 常规材料对切割工艺的要求及其影响第14页
    2.2 低K介质材料对切割的相关影响第14-15页
        2.2.1 低K介质材料的特性及优缺点第14-15页
        2.2.2 低K介质材料对切割工艺的影响第15页
    2.3 实际问题的描述及分析第15-18页
        2.3.1 实际产品的结构及特点第15-17页
        2.3.2 实际产生的问题概述第17页
        2.3.3 问题产生的原因及分析(研究方向)第17-18页
第三章 切割的工艺优化与改进第18-40页
    3.1 切割工艺的改进第18-32页
        3.1.1 切割工艺的调整及改进(激光切割的引入)第18-19页
        3.1.2 激光切割参数的控制比较第19-21页
        3.1.3 激光切割的实际运用第21-32页
            3.1.3.1 激光切割对特殊切割槽产品的改进第21-29页
            3.1.3.2 激光切割对厚金属层材料产品的优化第29-32页
        3.1.4 激光切割工艺的综合效果第32页
    3.2 工具的改进协调及刀片切割参数的优化第32-40页
        3.2.1 刀片的优化选择与实现第32-36页
        3.2.2 切割工艺参数的设置及优化第36-39页
            3.2.2.1 切割参数的设定第36-39页
        3.2.3 试验比较及分析第39-40页
第四章 原材料的匹配与适应第40-46页
    4.1 胶带的选取(胶层性能的控制要求)第40-42页
    4.2 溶液的比较选用第42-44页
        4.2.1 溶液的条件控制及比较第42-44页
    4.3 原材料的运用分析与汇总第44-46页
第五章 综合情况分析、验证与汇总第46-48页
    5.1 试验结果验证第46页
    5.2 良率、可靠性、生产效益等数据观察第46-47页
    5.3 汇总及综合分析第47-48页
第六章 总结及可行性改进方案第48-51页
    6.1 效果的改善与总结第48-49页
    6.2 其它可行性改进方案及展望第49-51页
参考文献第51-52页
致谢第52-53页

论文共53页,点击 下载论文
上一篇:高带宽HDD Preamp IC测试技术研究
下一篇:压力管理干预应用于急性心肌梗死患者的效果评价