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Cu/Ag(Invar)复合材料制备与界面结构优化

致谢第7-8页
摘要第8-9页
Abstract第9-10页
第一章 绪论第15-26页
    1.1 引言第15页
    1.2 Cu基电子封装复合材料第15-18页
        1.2.1 研究现状第15-17页
        1.2.2 制备方法第17-18页
    1.3 形变热处理第18-19页
    1.4 化学镀Ag第19-22页
        1.4.1 化学镀Ag影响因素第20-22页
        1.4.2 镀液pH值第22页
        1.4.3 化学镀温度第22页
        1.4.4 搅拌间歇时间、搅拌速度第22页
        1.4.5 基体粉末的装载量第22页
        1.4.6 基体粉末的粒径第22页
    1.5 研究的目的、意义及主要内容第22-26页
        1.5.1 目的、意义第22-25页
        1.5.2 主要研究内容第25-26页
第二章 实验材料及方法第26-33页
    2.1 实验材料第26-27页
    2.2 实验工艺流程第27-29页
        2.2.1 Ag(Invar)复合粉体的制备第27-28页
        2.2.2 Cu/Ag(Invar)复合材料的烧结制备第28页
        2.2.3 Cu/Ag(Invar)复合材料的轧制第28-29页
    2.3 性能测试方法第29-31页
        2.3.1 密度和致密度的测定第29页
        2.3.2 显微组织观察测试第29-30页
        2.3.3 显微硬度测定第30-31页
        2.3.4 物理性能分析第31页
    2.4 主要仪器设备第31-33页
第三章 Ag(Invar)粉体的化学镀制备及形成机理第33-43页
    3.1 引言第33页
    3.2 工艺参数对化学镀的影响第33-37页
        3.2.1 化学镀液的pH值第33-35页
        3.2.2 化学镀时间第35-37页
    3.3 化学镀机理第37-41页
        3.3.1 元素成分分布第37-39页
        3.3.2 物相分析第39-41页
    3.4 本章小结第41-43页
第四章 Cu/Ag(Invar)复合材料的烧结制备第43-55页
    4.1 引言第43-44页
    4.2 显微组织第44-46页
    4.3 Ag的分布第46-49页
    4.4 烧结态Cu/Ag(Invar)复合材料的性能第49-53页
        4.4.1 致密度第49页
        4.4.2 硬度第49-50页
        4.4.3 电导率第50-51页
        4.4.4 热导率第51-53页
    4.5 本章小结第53-55页
第五章 Cu/Ag(Invar)复合材料的形变热处理第55-62页
    5.1 引言第55页
    5.2 显微组织第55-56页
    5.3 元素分布第56-57页
    5.4 性能第57-61页
        5.4.1 致密度第57-59页
        5.4.2 硬度第59页
        5.4.3 热导第59-60页
        5.4.4 热膨胀系数第60-61页
    5.5 本章小结第61-62页
第六章 全文总结第62-64页
    6.1 结论第62页
    6.2 创新点第62-64页
参考文献第64-69页
攻读硕士学位期间发表的论文第69-70页

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