| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-30页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·氮化铝的结构性能 | 第10-12页 |
| ·氮化铝的应用 | 第12-15页 |
| ·陶瓷基板与电子封装材料 | 第12-13页 |
| ·耐热材料 | 第13-14页 |
| ·薄膜材料 | 第14页 |
| ·复合材料 | 第14-15页 |
| ·氮化铝粉末的制备 | 第15-20页 |
| ·碳热还原法 | 第15-16页 |
| ·直接氮化法 | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积法 | 第17-18页 |
| ·自蔓延高温合成法 | 第18-19页 |
| ·等离子化学合成法 | 第19页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第19-20页 |
| ·其它方法 | 第20页 |
| ·氮化铝坯体成型 | 第20-23页 |
| ·钢模干压成型 | 第20-21页 |
| ·等静压成型 | 第21页 |
| ·流延成型 | 第21-22页 |
| ·注射成型 | 第22-23页 |
| ·氮化铝陶瓷烧结 | 第23-28页 |
| ·烧结基理 | 第23-25页 |
| ·烧结方法 | 第25-27页 |
| ·影响因素 | 第27-28页 |
| ·实验目的与研究内容 | 第28-30页 |
| 第2章 研究内容与实验方法 | 第30-33页 |
| ·实验流程 | 第30-31页 |
| ·实验仪器设备和原料 | 第31-32页 |
| ·实验方法 | 第32-33页 |
| ·陶瓷制备 | 第32页 |
| ·结果分析 | 第32-33页 |
| 第3章 氮化铝氧化变质与陶瓷制备工艺 | 第33-44页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·氮化铝粉末的热氧化 | 第34-36页 |
| ·氮化铝粉末高温热氧化实验方法 | 第34-35页 |
| ·热氧化产物XRD分析 | 第35-36页 |
| ·氮化铝粉末的水解氧化 | 第36-40页 |
| ·氮化铝粉末水解实验方法 | 第37页 |
| ·水解过程pH值变化 | 第37-39页 |
| ·水解产物XRD分析 | 第39-40页 |
| ·氮化铝氧化与陶瓷制备工艺 | 第40-42页 |
| ·陶瓷制备工艺优化实验方法 | 第41-42页 |
| ·烧结体XRD图谱分析 | 第42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 第4章 氮化铝陶瓷的低温烧结 | 第44-53页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·实验方法 | 第44-45页 |
| ·实验结果 | 第45-50页 |
| ·烧结体XRD图谱 | 第45-46页 |
| ·烧结体致密度 | 第46-50页 |
| ·讨论 | 第50-51页 |
| ·小结 | 第51-53页 |
| 第5章 烧结助剂对氮化铝陶瓷高温烧结行为的影响 | 第53-62页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·实验方法 | 第53-54页 |
| ·实验结果 | 第54-58页 |
| ·烧结体XRD图谱 | 第54-55页 |
| ·烧结体断面SEM像 | 第55-58页 |
| ·烧结体密度测量 | 第58页 |
| ·讨论 | 第58-61页 |
| ·共熔液相促进陶瓷烧结 | 第59-60页 |
| ·第二相分布 | 第60页 |
| ·物质挥发与气孔的形成 | 第60-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 第6章 氮化铝陶粉末酸洗预处理对瓷高温烧结行为的影响 | 第62-71页 |
| ·引言 | 第62页 |
| ·磷酸酸洗预处理 | 第62-64页 |
| ·酸洗处理过程 | 第62页 |
| ·酸洗粉末抗水解性能检测 | 第62-64页 |
| ·实验方法 | 第64页 |
| ·实验结果 | 第64-68页 |
| ·烧结体XR图谱 | 第64-66页 |
| ·烧结体断面SEM像 | 第66-67页 |
| ·烧结体密度测量 | 第67-68页 |
| ·讨论 | 第68-69页 |
| ·小结 | 第69-71页 |
| 第7章 总结 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |