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湿法提纯多晶硅线切割废料中硅粉的工艺基础研究

致谢第4-5页
摘要第5-7页
Abstract第7-9页
1. 引言第13-15页
2. 文献综述第15-36页
    2.1 国内外多晶硅生产概况及太阳能级多晶硅生产工艺技术现状第15-17页
    2.2 太阳能光伏硅片的生产工艺第17-18页
    2.3 单晶硅及多晶硅线切割废料的特性第18-19页
    2.4 单晶硅及多晶硅线切割废料回收的研究现状第19-33页
        2.4.1 国内从多晶硅线切割废料中分离回收各组分的研究进展第20-23页
        2.4.2 国外从切割废料中回收各组分的主要研究进展第23-31页
        2.4.3 废料粉末或富硅相粉末去除杂质的主要研究进展第31-33页
    2.5 选题意义及研究内容第33-36页
        2.5.1 选题意义第33-34页
        2.5.2 研究内容第34-36页
3. 多晶硅线切割废料中主要杂质性状分析第36-47页
    3.1 引言第36页
    3.2 实验部分第36-39页
        3.2.1 化学试剂第36-37页
        3.2.2 仪器与设备第37-38页
        3.2.3 实验方法第38-39页
    3.3 结果与讨论第39-45页
        3.3.1 多晶硅线切割废料粉末的性质第39-41页
        3.3.2 多晶硅线切割废料粉末中主要成分分析第41-42页
        3.3.3 多晶硅线切割废料粉末中杂质分析第42-43页
        3.3.4 多晶硅线切割废料粉末中杂质B和P含量分析第43页
        3.3.5 多晶硅线切割废料粉末中杂质B和P的来源第43-45页
    3.4 本章小结第45-47页
4. 多晶硅线切割废料中硅和碳化硅颗粒的分离第47-66页
    4.1 引言第47-48页
    4.2 实验部分第48-50页
        4.2.1 化学试剂第48页
        4.2.2 仪器与设备第48-49页
        4.2.3 实验步骤第49-50页
    4.3 结果与讨论第50-64页
        4.3.1 硅和碳化硅的Zeta电位调控第50-52页
        4.3.2 离心分离法第52-60页
        4.3.3 微孔滤膜过滤分离法第60-64页
    4.4 本章小结第64-66页
5. 常规酸洗和微波酸洗去除富硅相粉末中的杂质第66-88页
    5.1 引言第66页
    5.2 实验部分第66-69页
        5.2.1 化学试剂第66-67页
        5.2.2 仪器与设备第67-68页
        5.2.3 实验方法第68-69页
    5.3 结果与讨论第69-86页
        5.3.1 富硅相粉末中杂质Fe的赋存形式分析第69-70页
        5.3.2 常规酸洗法去除富硅相粉末中的杂质第70-75页
        5.3.3 常规酸洗法去除富硅相粉末中的杂质动力学研究第75-82页
        5.3.4 微波酸洗法去除富硅相粉末中的杂质第82-86页
    5.4 本章小结第86-88页
6. 磁选-强化酸洗法去除富硅相粉末中的杂质第88-109页
    6.1 引言第88-89页
    6.2 实验部分第89-90页
        6.2.1 化学试剂第89页
        6.2.2 仪器与设备第89页
        6.2.3 实验方法第89-90页
    6.3 结果与讨论第90-106页
        6.3.1 富硅相粉末的团聚现象第90-92页
        6.3.2 富硅相粉末中超声波分散效果分析第92-93页
        6.3.3 碱性处理对富硅相粉末的分散作用第93-95页
        6.3.4 硅颗粒间的相互作用能第95-98页
        6.3.5 磁选-强化酸洗法流程第98-99页
        6.3.6 富硅相溶液的磁选过程第99-101页
        6.3.7 富硅相粉末(磁选后)的强化酸洗过程第101-104页
        6.3.8 酸洗除Fe过程模型分析第104-106页
    6.4 湿法提纯多晶硅线切割废料中硅粉的工艺流程设计第106-107页
    6.5 本章小结第107-109页
7. 结论第109-111页
参考文献第111-121页
作者简历及在学研究成果第121-124页
学位论文数据集第124页

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