| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第6-31页 |
| 1．1 引言 | 第6-7页 |
| 1．2 有机光电导材料 | 第7-9页 |
| 1．3 酞菁类有机光电导材料简介 | 第9-13页 |
| 1．3．1 酞菁化合物的合成及纯化 | 第9-10页 |
| 1．3．2 酞菁金属配合物的合成及纯化 | 第10页 |
| 1．3．3 酞菁金属配合物的结构及晶型 | 第10-12页 |
| 1．3．4 酞菁金属配合物的UV-VIS吸收谱 | 第12-13页 |
| 1．4 酞菁材料的应用 | 第13-20页 |
| 1．4．1 气敏性应用 | 第13-15页 |
| 1．4．2 酞菁在非线性光学方面的应用 | 第15-16页 |
| 1．4．3 酞菁在电致变色器件方面的应用 | 第16-17页 |
| 1．4．4 酞菁金属配合物在电致发光性方面的应用 | 第17-18页 |
| 1．4．5 光伏打效应的应用 | 第18-19页 |
| 1．4．6 光存储性的应用 | 第19-20页 |
| 1．5 展望酞菁类材料的发展前景 | 第20-22页 |
| 1．5．1 复合酞菁材料 | 第20页 |
| 1．5．2 酞菁类有机超晶格材料 | 第20-21页 |
| 1．5．3 酞菁类纳米材料 | 第21-22页 |
| 1．6 富勒烯（C_（60））的基本结构与性能 | 第22-25页 |
| 1．6．1 富勒烯材料的基本结构与性能 | 第22-23页 |
| 1．6．2 富勒烯材料的应用 | 第23-25页 |
| 1．7 问题的提出 | 第25-26页 |
| 1．8 本文的工作 | 第26-27页 |
| 参考文献： | 第27-31页 |
| 第二章 实验设备与样品的制备 | 第31-38页 |
| 2．1 样品的合成与纯化 | 第31-32页 |
| 2．1．1 酞菁氧钒的合成与纯化 | 第31页 |
| 2．1．2 酞菁铅的合成与纯化 | 第31-32页 |
| 2．2 真空薄膜沉积系统 | 第32-33页 |
| 2．3 薄膜的制备 | 第33-34页 |
| 2．3．1 衬底的制备 | 第33-34页 |
| 2．3．2 薄膜的制备 | 第34页 |
| 2．3．3 薄膜的后处理 | 第34页 |
| 2．4 薄膜的表征手段 | 第34-37页 |
| 2．4．1 UV-VIS吸收光谱 | 第34-35页 |
| 2．4．2 膜厚的测量 | 第35页 |
| 2．4．3 X光电子能谱（XPS） | 第35-36页 |
| 2．4．4 X射线衍射（XRD） | 第36-37页 |
| 2．4．5 原子力显微镜（Atomic force microscope） | 第37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第三章 酞菁类金属配合物复合膜的性质研究 | 第38-56页 |
| 3．1 PbPc&VOPc复合膜的研究 | 第38-43页 |
| 3．1．1 样品的制备与处理 | 第38页 |
| 3．1．2 结果与讨论 | 第38-43页 |
| 3．2 酞菁配合物与C_（60）复合膜的研究 | 第43-54页 |
| 3．2．1 H_2Pc&C_（60）复合膜的研究 | 第43-48页 |
| 3．2．2 VOPe&C_（60）复合膜的研究 | 第48-54页 |
| 3．3 本章结论 | 第54页 |
| 参考文献： | 第54-56页 |
| 第四章 热处理对酞菁氧钒薄膜性质的影响 | 第56-72页 |
| 4．1 酞菁氧钒的基本结构 | 第56-57页 |
| 4．2 无外场作用时热处理对酞菁氧钒薄膜的影响 | 第57-61页 |
| 4．2．1 样品的制备和处理方法 | 第57-58页 |
| 4．2．2 实验结果与分析 | 第58-61页 |
| 4．3 磁场下的热处理对酞菁氧钒薄膜的影响 | 第61-67页 |
| 4．3．1 样品的制备和处理方法 | 第61-62页 |
| 4．3．2 结果与分析 | 第62-67页 |
| 4．4 电场下的热处理对酞菁氧钒薄膜的影响 | 第67-71页 |
| 4．4．1 样品的制备和处理方法 | 第67页 |
| 4．4．2 结果与分析 | 第67-71页 |
| 4．5 结论 | 第71页 |
| 参考文献 | 第71-72页 |
| 第五章 本文结论 | 第72-74页 |
| 5．1 实验结论 | 第72-73页 |
| 5．2 实验的不足与有待改进之处 | 第73-74页 |
| 攻读硕士期间完成的学术论文： | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |