| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-10页 |
| 第二章 文献综述 | 第10-22页 |
| 2．1 ZnO的性质 | 第10-11页 |
| 2．2 Zn_（1-x）Mg_xO三元合金的结构、作用及研究进展 | 第11-18页 |
| 2．3 ZnO/ZnMgO薄膜的外延生长技术 | 第18-19页 |
| 2．4 立题目背景及依据 | 第19-22页 |
| 第三章 PLD薄膜生长实验介绍 | 第22-29页 |
| 3．1 PLD设备 | 第22-24页 |
| 3．2 靶材的制备与表征 | 第24-27页 |
| 3．3 ZnMgO薄膜的生长过程 | 第27-29页 |
| 第四章 衬底温度对薄膜性质的影响 | 第29-40页 |
| 4．1 衬底温度对薄膜晶体质量的影响 | 第29-32页 |
| 4．2 衬底温度对薄膜表面形貌的影响 | 第32-34页 |
| 4．3 衬底温度对薄膜成分的影响 | 第34-37页 |
| 4．4 衬底温度对薄膜光学性质的影响 | 第37-40页 |
| 第五章 不同组分的靶材生长的ZnMgO薄膜 | 第40-47页 |
| 5．1 晶体质量与靶材成分关系 | 第40-43页 |
| 5．2 原子力显微镜（AFM）观察的表面形貌图 | 第43-47页 |
| 第六章 ZnMgO薄膜的透射电镜观察 | 第47-50页 |
| 第七章 ZnMgO和ZnO薄膜的退火特性 | 第50-57页 |
| 7．1 在氮气中退火 | 第50-53页 |
| 7．2 在氧气中退火 | 第53-57页 |
| 第八章 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |