类金刚石薄膜制备工艺与特性研究
| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·研究背景及意义 | 第10-11页 |
| ·国内外发展现状与分析 | 第11-13页 |
| ·类金刚石薄膜的性能与应用 | 第13-16页 |
| ·DLC 薄膜的机械性能和应用 | 第14页 |
| ·DLC 薄膜的光学性能和应用 | 第14-15页 |
| ·电学性能及其应用 | 第15页 |
| ·化学性能及其在生物医学领域的应用 | 第15-16页 |
| ·制备方法 | 第16页 |
| ·本论文内容的组织和安排 | 第16-18页 |
| 第2章 DLC 薄膜制备工艺研究方案 | 第18-34页 |
| ·制备技术与实验装置简介 | 第18-21页 |
| ·RF-PECVD 技术 | 第18-19页 |
| ·实验装置介绍 | 第19-21页 |
| ·基本参数选择 | 第21-22页 |
| ·实验前预处理 | 第22-23页 |
| ·真空室预处理 | 第22页 |
| ·衬底预处理 | 第22-23页 |
| ·工艺流程 | 第23页 |
| ·实验方案 | 第23-25页 |
| ·薄膜的分析测试理论 | 第25-33页 |
| ·薄膜的光学常数测量 | 第25-31页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第31-32页 |
| ·薄膜的红外光学性能测量 | 第32-33页 |
| ·薄膜硬度的测量 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 薄膜制备工艺研究 | 第34-57页 |
| ·薄膜的附着力 | 第35页 |
| ·主要工艺参数对薄膜光学常数和沉积速率的影响 | 第35-44页 |
| ·射频功率对薄膜光学常数和沉积速率的影响 | 第35-37页 |
| ·沉积气压对薄膜光学常数和沉积速率的影响 | 第37-39页 |
| ·气体流量比对薄膜光学常数和沉积速率的影响 | 第39-42页 |
| ·不同极板间距薄膜光学常数和沉积速率的影响 | 第42-44页 |
| ·主要工艺参数对 DLC 结构的影响 | 第44-50页 |
| ·射频功率对薄膜结构的影响 | 第44-46页 |
| ·工作气压对薄膜结构的影响 | 第46-47页 |
| ·气体流量比对薄膜结构的影响 | 第47-49页 |
| ·极板间距对薄膜结构的影响 | 第49-50页 |
| ·主要工艺参数对薄膜硬度的影响规律 | 第50-55页 |
| ·射频功率对薄膜硬度的影响 | 第50-52页 |
| ·沉积气压对薄膜硬度的影响 | 第52-53页 |
| ·气体流量比对薄膜硬度的影响 | 第53-54页 |
| ·基板间距对薄膜硬度的影响 | 第54-55页 |
| ·DLC 薄膜抗压性能分析 | 第55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第4章 DLC 红外增透膜系的理论设计与实验验证 | 第57-63页 |
| ·膜系设计理论 | 第57-60页 |
| ·DLC 膜系设计 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第5章 总结与展望 | 第63-65页 |
| ·本论文主要工作 | 第63-64页 |
| ·对今后工作的建议和展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 作者简介及在学期间发表的科研论文与研究成果 | 第68页 |
