基于SU-8工艺的微流体检测通道结构的设计与实现
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| ·微流控芯片介绍 | 第10-11页 |
| ·微流控芯片材料 | 第11-13页 |
| ·微流体检测通道介绍 | 第13-15页 |
| ·本论文的目的、意义及主要研究内容 | 第15-17页 |
| 2 微流体检测通道设计与仿真分析 | 第17-27页 |
| ·微流体检测通道设计 | 第17-24页 |
| ·微流尺度下流体机理研究 | 第17-18页 |
| ·微流体尺度下流体力学方程 | 第18-19页 |
| ·微流体检测通道中流体状态分析 | 第19-21页 |
| ·微流体检测通道三维聚焦结构设计 | 第21-24页 |
| ·微流体检测通道仿真分析 | 第24-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 3 微流体检测通道的关键工艺参数研究与加工 | 第27-46页 |
| ·SU-8 光刻胶及实验参数 | 第27-32页 |
| ·SU-8 简介 | 第27-28页 |
| ·前烘时间参数 | 第28-30页 |
| ·曝光剂量标定 | 第30-32页 |
| ·SU-8 光刻关键工艺研究 | 第32-39页 |
| ·光源波长对结构准直性影响 | 第32-35页 |
| ·光学特性对结构准直性影响 | 第35-39页 |
| ·斜曝光工艺研究 | 第39-40页 |
| ·光刻掩膜版制作 | 第40页 |
| ·微流体检测通道的加工 | 第40-45页 |
| ·硅片准备 | 第40-41页 |
| ·匀胶 | 第41页 |
| ·一次前烘 | 第41页 |
| ·一次曝光 | 第41-42页 |
| ·二次匀胶 | 第42-43页 |
| ·二次前烘 | 第43页 |
| ·二次曝光 | 第43页 |
| ·后烘 | 第43-44页 |
| ·显影 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 4 微流体检测通道复制及封装 | 第46-63页 |
| ·PDMS 简介及性能 | 第46-48页 |
| ·PDMS 简介 | 第46-47页 |
| ·PDMS 性能 | 第47-48页 |
| ·PDMS 倒模研究 | 第48-57页 |
| ·PDMS 一次倒模 | 第49-51页 |
| ·PDMS 二次倒模研究 | 第51-57页 |
| ·PDMS 微流体检测通道封装 | 第57-62页 |
| ·封装介绍 | 第57-60页 |
| ·微流体通道的封装 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 5 实验测试与结果讨论 | 第63-66页 |
| ·微流体检测通道流通性测试 | 第63-64页 |
| ·微流体检测通道聚焦性能测试 | 第64页 |
| ·微流体检测通道荧光测试 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 6 总结与展望 | 第66-68页 |
| ·总结 | 第66-67页 |
| ·展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
