| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-36页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·铁电存储器 | 第15-19页 |
| ·铁电存储器的种类 | 第15-16页 |
| ·FRAM 的工作原理 | 第16-18页 |
| ·铁电存储器的发展概况 | 第18-19页 |
| ·铁电存储器的材料 | 第19-24页 |
| ·铁电体和铁电薄膜 | 第19-22页 |
| ·PZT 的晶体结构 | 第22-23页 |
| ·含Bi 层状钙钛矿铁电体的结构 | 第23-24页 |
| ·铁电疲劳机理研究 | 第24-26页 |
| ·PZT 薄膜的制备方法 | 第26-29页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第26-27页 |
| ·化学气相沉积法 | 第27页 |
| ·溅射法 | 第27-28页 |
| ·水热合成法 | 第28页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第28-29页 |
| ·PZT 铁电薄膜的改性研究现状 | 第29-34页 |
| ·PZT 薄膜用底电极 | 第29-32页 |
| ·引入过渡层 | 第32-33页 |
| ·PZT 铁电薄膜的掺杂改性研究 | 第33-34页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第34-36页 |
| 第2章 试验材料及研究方法 | 第36-44页 |
| ·材料制备 | 第36-38页 |
| ·溶胶的制备 | 第36页 |
| ·薄膜材料的制备 | 第36-38页 |
| ·薄膜制备工艺参数 | 第38页 |
| ·掺杂PZT 溶胶成胶机制分析 | 第38-39页 |
| ·气相色谱与质谱联用分析 | 第38页 |
| ·傅里叶红外光谱分析 | 第38-39页 |
| ·PZT 粉体分析 | 第39页 |
| ·干胶粉的热重/差热分析 | 第39页 |
| ·粉体的XRD 分析 | 第39页 |
| ·顺磁共振分析 | 第39页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第39页 |
| ·薄膜的微结构分析 | 第39-40页 |
| ·薄膜的XRD 分析 | 第39-40页 |
| ·表面和断面形貌分析 | 第40页 |
| ·原子力显微分析 | 第40页 |
| ·薄膜的铁电及介电性能测试 | 第40-44页 |
| ·上电极的制备 | 第40-41页 |
| ·薄膜厚度测定 | 第41页 |
| ·薄膜铁电性能测试 | 第41-43页 |
| ·其它铁电性能和介电性能测试 | 第43-44页 |
| 第3章 掺杂PZT 溶胶反应机制及粉体分析 | 第44-64页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·掺杂PZT 溶胶的制备 | 第44页 |
| ·掺杂PZT 溶胶的成胶反应机制分析 | 第44-55页 |
| ·GC-MS 分析 | 第45-53页 |
| ·IR 分析 | 第53-55页 |
| ·掺杂PZT 粉体分析 | 第55-62页 |
| ·掺杂PZT 粉体的热行为分析 | 第55-56页 |
| ·掺杂PZT 结晶粉的相组成分析 | 第56-58页 |
| ·PZT 结晶粉的TEM 分析 | 第58-59页 |
| ·PGZT 和PYZT 粉体的Raman 光谱分析 | 第59-61页 |
| ·PGZT 粉体的ESR 分析 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第4章 掺杂PZT 薄膜的微结构 | 第64-92页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·掺杂PZT 薄膜的制备工艺 | 第64-65页 |
| ·掺杂PZT 薄膜相组成及取向性 | 第65-75页 |
| ·热处理温度的影响 | 第66页 |
| ·热分解温度的影响 | 第66-68页 |
| ·掺杂剂的影响 | 第68-70页 |
| ·复合热处理方式对薄膜相组成及取向的影响 | 第70-75页 |
| ·溶胶-凝胶法PZT 薄膜的取向生长机制探讨 | 第75-77页 |
| ·掺杂PZT 薄膜的织构 | 第77-82页 |
| ·薄膜纤维织构的ω 扫描分析 | 第77-79页 |
| ·不同工艺制备PZT 薄膜的织构 | 第79-82页 |
| ·掺杂PZT 薄膜的形貌 | 第82-91页 |
| ·PGZT 薄膜的表面和断面形貌 | 第82-84页 |
| ·PGZT 薄膜的原子力显微像 | 第84-85页 |
| ·PYZT 薄膜的表面和断面形貌 | 第85-87页 |
| ·PYZT 薄膜的原子力显微像 | 第87-88页 |
| ·PGNZT 薄膜的表面和断面形貌 | 第88-90页 |
| ·PGNZT 薄膜的原子力显微像 | 第90-91页 |
| ·本章小结 | 第91-92页 |
| 第5章 掺杂PZT 薄膜的铁电及介电性能 | 第92-112页 |
| ·引言 | 第92页 |
| ·PGZT 薄膜的铁电和介电性能 | 第92-100页 |
| ·Pt/PGZT/Pt 的电滞回线 | 第92-94页 |
| ·Pt/PGZT/Pt 的疲劳特性 | 第94-96页 |
| ·Pt/PGZT/Pt 的漏电流特性 | 第96-97页 |
| ·Pt/PGZT/Pt 的电容-电压特性 | 第97-99页 |
| ·PGZT 薄膜的介电性能 | 第99-100页 |
| ·PYZT 薄膜的铁电和介电性能 | 第100-106页 |
| ·Pt/PYZT/Pt 的电滞回线 | 第100-101页 |
| ·Pt/PYZT/Pt 的疲劳特性 | 第101-102页 |
| ·Pt/PYZT/Pt 的电容-电压特性 | 第102-103页 |
| ·PYZT 薄膜的介电性能 | 第103-105页 |
| ·Pt/PYZT/Pt 薄膜的漏电流特性 | 第105-106页 |
| ·PGNZT 薄膜的铁电和介电性能 | 第106-110页 |
| ·PGNZT 薄膜的电滞回线 | 第106-107页 |
| ·Pt/PGNZT/Pt 的疲劳特性 | 第107-108页 |
| ·Pt/PGNZT/Pt 的漏电流特性 | 第108-109页 |
| ·Pt/PGNZT/Pt 的电容-电压特性 | 第109-110页 |
| ·本章小结 | 第110-112页 |
| 第6章 掺杂PZT 薄膜的改性机制分析 | 第112-132页 |
| ·引言 | 第112页 |
| ·Gd 与Yb 离子占位分析 | 第112-124页 |
| ·PGZT 与PYZT 薄膜的容限因子 | 第112-115页 |
| ·掺杂改性的缺陷化学分析 | 第115-116页 |
| ·掺杂PZT 薄膜的XPS 分析 | 第116-124页 |
| ·掺杂PZT 薄膜的极化行为分析 | 第124-127页 |
| ·掺杂PZT 薄膜的瑞利定律分析 | 第127-130页 |
| ·本章小结 | 第130-132页 |
| 结论 | 第132-134页 |
| 参考文献 | 第134-147页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第147-149页 |
| 致谢 | 第149-150页 |
| 个人简历 | 第150页 |