| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-30页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·ZnO材料的基本性质 | 第10-18页 |
| ·ZnO的结构性质 | 第11-13页 |
| ·ZnO的能带结构 | 第13-15页 |
| ·ZnO的缺陷与掺杂 | 第15-16页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第16-18页 |
| ·ZnO薄膜的主要应用 | 第18-21页 |
| ·表面声波器件 | 第18-19页 |
| ·太阳能电池 | 第19页 |
| ·传感器 | 第19页 |
| ·GaN缓冲层 | 第19-20页 |
| ·紫外探测器 | 第20页 |
| ·ZnO发光二极管(LEDs)和激光二极管(LDs) | 第20-21页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第21-23页 |
| ·溅射法(sputtering) | 第21-22页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第22页 |
| ·脉冲激光沉积方法(PLD) | 第22-23页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第23页 |
| ·脉冲激光沉积方法 | 第23-28页 |
| ·脉冲激光沉积方法研究现状 | 第23-24页 |
| ·脉冲激光沉积方法基本原理 | 第24-27页 |
| ·脉冲激光沉积方法的优、缺点 | 第27-28页 |
| ·ZnO材料的研究热点 | 第28-30页 |
| 第2章 实验设计 | 第30-36页 |
| ·实验设备概述 | 第30-31页 |
| ·实验材料的准备 | 第31-32页 |
| ·衬底的选择及预处理 | 第31-32页 |
| ·靶材 | 第32页 |
| ·实验参数选择 | 第32-33页 |
| ·氧分压 | 第32页 |
| ·衬底温度 | 第32-33页 |
| ·脉冲能量 | 第33页 |
| ·退火 | 第33页 |
| ·实验过程 | 第33-34页 |
| ·测试手段概述 | 第34-36页 |
| ·结构分析——X射线衍射(XRD) | 第34页 |
| ·形貌分析——扫描电子显微镜(SEM) | 第34-35页 |
| ·发光分析——光致发光谱(PL) | 第35页 |
| ·膜厚分析——椭偏膜厚仪 | 第35-36页 |
| 第3章 实验结果分析 | 第36-52页 |
| ·氧分压对ZnO薄膜的影响 | 第36-41页 |
| ·氧分压对ZnO薄膜结构的影响 | 第36-38页 |
| ·氧分压对ZnO薄膜形貌的影响 | 第38-39页 |
| ·氧分压对ZnO薄膜发光性能的影响 | 第39-40页 |
| ·氧分压对ZnO薄膜厚度的影响 | 第40-41页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜的影响 | 第41-46页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜结构的影响 | 第41-43页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜发光性能的影响 | 第44-45页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜厚度的影响 | 第45-46页 |
| ·脉冲能量对ZnO薄膜的影响 | 第46-49页 |
| ·脉冲能量对ZnO薄膜结构的影响 | 第46-47页 |
| ·脉冲能量对ZnO薄膜形貌的影响 | 第47-48页 |
| ·脉冲能量对ZnO薄膜发光性能的影响 | 第48页 |
| ·脉冲能量对ZnO薄膜厚度的影响 | 第48-49页 |
| ·退火对ZnO薄膜的影响 | 第49-52页 |
| ·退火对ZnO薄膜结构的影响 | 第50页 |
| ·退火对ZnO薄膜形貌的影响 | 第50-51页 |
| ·退火对ZnO薄膜光致发光的影响 | 第51-52页 |
| 第4章 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 附录:攻读硕士期间即将发表的论文 | 第59页 |