脉冲激光沉积法制备纳米氧化钛薄膜
提要 | 第1-8页 |
第一章 绪论 | 第8-31页 |
·纳米技术的发展及应用 | 第8-11页 |
·纳米材料的结构和性能 | 第9-10页 |
·纳米材料的应用 | 第10-11页 |
·半导体材料 | 第11-17页 |
·半导体材料及其研究现状 | 第11-12页 |
·纳米半导体的特殊性质 | 第12-15页 |
·纳米半导体的应用 | 第15-17页 |
·光催化反应原理 | 第17-20页 |
·TiO_2光催化反应原理 | 第18-19页 |
·氮掺杂半导体的可见光催化机理 | 第19-20页 |
·TiO_2光催化活性的影响因素 | 第20-24页 |
·晶体结构的影响 | 第20-22页 |
·晶粒尺寸的影响 | 第22-23页 |
·表面活性的影响 | 第23-24页 |
·纳米TiO_2薄膜的主要制备方法 | 第24-31页 |
·液相沉积法 | 第24-25页 |
·溶胶–凝胶(Sol-gel)法 | 第25-27页 |
·化学气相沉积法 | 第27页 |
·磁控溅射法 | 第27-28页 |
·PLD法 | 第28-31页 |
第二章 实验内容及分析方法 | 第31-36页 |
·实验内容 | 第31-33页 |
·实验设备 | 第31-32页 |
·实验原料 | 第32-33页 |
·样品的表征方法 | 第33-36页 |
第三章 锐钛矿型TiO_2薄膜结构与性能 | 第36-45页 |
·引言 | 第36页 |
·实验 | 第36-37页 |
·结果与讨论 | 第37-44页 |
·结构性能 | 第37-41页 |
·光学性能 | 第41-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
第四章 混晶TiO_2薄膜的结构与性能 | 第45-57页 |
·引言 | 第45页 |
·实验 | 第45-46页 |
·结果分析 | 第46-55页 |
·样品XRD分析 | 第46-48页 |
·样品的XPS分析 | 第48-49页 |
·样品的SEM分析 | 第49-50页 |
·TiO_2薄膜的光催化活性分析 | 第50-51页 |
·样品的UV/Vis 透射光谱分析 | 第51-53页 |
·混晶TiO_2薄膜光催化机制 | 第53-55页 |
·本章小结 | 第55-57页 |
第五章 N掺杂TiO_2薄膜的结构与性能 | 第57-67页 |
·引言 | 第57-58页 |
·实验 | 第58页 |
·结果与讨论 | 第58-65页 |
·样品的XRD分析 | 第58-59页 |
·样品的XPS分析 | 第59-62页 |
·样品的SEM分析 | 第62页 |
·样品的UV/Vis 吸收光谱分析 | 第62-65页 |
·TiO_2薄膜的光催化活性分析 | 第65页 |
·本章小结 | 第65-67页 |
第六章 结论 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-76页 |
摘要 | 第76-78页 |
ABSTRACT | 第78-82页 |
致谢 | 第82页 |