| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-14页 |
| ·研究目的与意义 | 第9-10页 |
| ·国内外研究进展 | 第10-12页 |
| ·磁滞回线模型理论研究 | 第10页 |
| ·应力对磁性能影响的实验研究 | 第10-11页 |
| ·应力敏感特性相关应用研究 | 第11-12页 |
| ·选题依据及研究内容 | 第12-14页 |
| ·选题依据 | 第12-13页 |
| ·研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 应力作用下非晶磁弹性薄膜的磁滞回线模型 | 第14-33页 |
| ·磁滞回线的两种经典模型 | 第14-18页 |
| ·Stoner-Wolhfarth(S-W)模型 | 第14-16页 |
| ·Jiles-Atherton(J-A)模型 | 第16-18页 |
| ·应力作用下畴壁钉扎的磁滞回线模型 | 第18-24页 |
| ·现有模型的不足 | 第18-20页 |
| ·应力作用下畴壁钉扎的磁滞回线模型 | 第20-24页 |
| ·模拟结果 | 第24-32页 |
| ·计算参数对模拟结果的影响 | 第24-25页 |
| ·应力对钉扎系数的影响 | 第25-26页 |
| ·应力方向平行于外磁场方向时的磁化过程 | 第26-29页 |
| ·沿不同方向施加应力时的磁化过程 | 第29-32页 |
| ·小节 | 第32-33页 |
| 第三章 FeCoSiB非晶薄膜的制备与磁性能研究 | 第33-43页 |
| ·实验 | 第33-34页 |
| ·FeCoSiB薄膜的制备 | 第33-34页 |
| ·FeCoSiB薄膜微结构与磁特性的测试 | 第34页 |
| ·实验研究结果与讨论 | 第34-42页 |
| ·FeCoSiB薄膜的相结构 | 第34-35页 |
| ·溅射气压对FeCoSiB薄膜成分的影响 | 第35-36页 |
| ·溅射气压对FeCoSiB表面形貌的影响 | 第36-38页 |
| ·溅射气压对FeCoSiB磁畴结构的影响 | 第38-40页 |
| ·溅射气压对FeCoSiB薄膜磁滞回线的影响 | 第40-42页 |
| ·结论 | 第42-43页 |
| 第四章 应力对FeCoSiB非晶薄膜磁特性影响的研究 | 第43-57页 |
| ·实验过程 | 第43-46页 |
| ·应力生长方法 | 第43-44页 |
| ·样品曲率半径测量 | 第44-45页 |
| ·薄膜应变计算 | 第45-46页 |
| ·应力对FeCoSiB薄膜磁特性的影响 | 第46-55页 |
| ·应力对磁滞回线的影响 | 第46-53页 |
| ·应力对磁畴结构的影响 | 第53-55页 |
| ·小节 | 第55-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 硕士期间取得的研究成果 | 第63页 |