| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-32页 |
| ·引言 | 第9-11页 |
| ·半导体光催化分解水制氢原理 | 第11-14页 |
| ·半导体光催化产氢的研究现状 | 第14-30页 |
| ·半导体光催化剂的分类 | 第14-19页 |
| ·金属氧化物半导体光催化剂 | 第15-17页 |
| ·金属氧酸盐半导体光催化剂 | 第17-18页 |
| ·金属氮化物和氮氧化物半导体光催化剂 | 第18页 |
| ·金属硫化物半导体光催化剂 | 第18-19页 |
| ·半导体光催化剂可见化的研究进展 | 第19-24页 |
| ·离子掺杂 | 第19-21页 |
| ·染料光敏化 | 第21-22页 |
| ·半导体复合 | 第22-24页 |
| ·提高光生电子-空穴利用率的研究 | 第24-28页 |
| ·贵金属担载 | 第24-25页 |
| ·负载氧化物 | 第25页 |
| ·复合半导体 | 第25-26页 |
| ·过渡金属离子掺杂 | 第26-27页 |
| ·添加牺牲试剂 | 第27-28页 |
| ·负载石墨烯 | 第28页 |
| ·半导体催化剂结构对催化活性的影响 | 第28-30页 |
| ·催化剂粒径对催化活性的影响 | 第28-29页 |
| ·晶相结构对催化活性的影响 | 第29页 |
| ·比表面积对催化活性的影响 | 第29-30页 |
| ·表面羟基对催化活性的影响 | 第30页 |
| ·本论文的选题思路和主要工作 | 第30-32页 |
| 第二章 可见光还原水制氢ZnS-CdS/SiO_2催化剂表面结构与性能的研究 | 第32-42页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·实验部分 | 第32-34页 |
| ·试剂与材料 | 第32-33页 |
| ·光催化剂的制备与表征 | 第33页 |
| ·光催化反应 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-41页 |
| ·硫源对催化剂结构和产氢活性的影响 | 第34-36页 |
| ·硫化物担载量对催化剂结构和产氢活性的影响 | 第36-38页 |
| ·溶液pH对催化剂结构和产氢活性的影响 | 第38-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 第三章 高分子修饰Pt/ZnS-CdS/SiO_2催化剂表面官能团调变与光催化制氢活性关系的研究 | 第42-53页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·实验部分 | 第43-44页 |
| ·试剂与材料 | 第43页 |
| ·光催化剂的制备与表征 | 第43-44页 |
| ·光催化分解水产氢实验 | 第44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-52页 |
| ·催化剂的形貌分析 | 第44-47页 |
| ·催化剂的光响应性能 | 第47-48页 |
| ·催化剂表面官能团的变化及分析 | 第48-51页 |
| ·催化剂的光催化产氢性能 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 第四章 结论 | 第53-56页 |
| ·主要结论 | 第53-54页 |
| ·研究展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-66页 |
| 在学期间的研究成果 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |