| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·非挥发性存储器 | 第10-11页 |
| ·非挥发性随机存储器 | 第10页 |
| ·铁电存储技术及铁电存储器 | 第10-11页 |
| ·铁电存储器的发展、分类及应用 | 第11-15页 |
| ·铁电存储器的发展及分类 | 第11-14页 |
| ·铁电存储器的应用 | 第14-15页 |
| ·1T结构铁电存储器 | 第15-19页 |
| ·MFS及MFIS结构场效应晶体管 | 第15-17页 |
| ·MFIS 结构器件的实验研究 | 第17-18页 |
| ·MFIS结构器件的理论研究 | 第18页 |
| ·MFIS结构器件面临的挑战 | 第18-19页 |
| ·本文的选题依据和主要工作 | 第19-20页 |
| ·本文的选题依据 | 第19页 |
| ·本文的主要工作 | 第19-20页 |
| 第2章 Silvaco/Atlas模拟软件及其对MFIS电容器电学性能的模拟 | 第20-32页 |
| ·Silvaco/Atlas模拟软件 | 第20-24页 |
| ·Silvaco/Atlas模拟软件简介 | 第20-21页 |
| ·Silvaco/Atlas对半导体器件模拟的基本方法 | 第21-22页 |
| ·Silvaco/Atlas对铁电层极化的描述 | 第22-24页 |
| ·MFIS电容器 | 第24-26页 |
| ·MFIS电容器的结构及参数 | 第24页 |
| ·MFIS电容器的C-V特性 | 第24-26页 |
| ·应用电压及绝缘层对MFIS电容器性能的影响 | 第26-31页 |
| ·应用电压对MFIS电容器相关性能的影响 | 第26-28页 |
| ·绝缘层厚度对MFIS电容器相关性能的影响 | 第28-29页 |
| ·绝缘层材料对MFIS电容器相关性能的影响 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 传统Lue模型对MFIS电容器电学性能的模拟 | 第32-43页 |
| ·MFIS电容器的传统模型 | 第32-33页 |
| ·MFIS电容器结构及其参数确定 | 第33-35页 |
| ·MFIS电容器结构 | 第33页 |
| ·MFIS电容器参数的确定 | 第33-35页 |
| ·MFIS电容器低频时的C-V特性分析 | 第35-36页 |
| ·MFIS电容器高频时的C-V特性及相关性能模拟 | 第36-42页 |
| ·应用电压对MFIS电容器相关性能的影响 | 第36-38页 |
| ·绝缘层厚度对MFIS电容器相关性能的影响 | 第38-40页 |
| ·绝缘层材料对MFIS电容器的相关性能的影响 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 MFIS电容器模型的改进 | 第43-54页 |
| ·已有的模型及其存在的缺陷 | 第43-44页 |
| ·MFIS电容器模型的改进 | 第44-50页 |
| ·基本思路与方法 | 第44页 |
| ·铁电层极化模型的改进 | 第44-48页 |
| ·MFIS电容器各层的电压及电位移方程 | 第48-49页 |
| ·MFIS电容器的C-V模型 | 第49-50页 |
| ·改进模型对MFIS电容器性能的模拟 | 第50-52页 |
| ·铁电层极化行为的模拟 | 第50页 |
| ·MFIS电容器C-V特性的模拟 | 第50-52页 |
| ·MFIS电容器记忆窗口的模拟 | 第52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第5章 总结及展望 | 第54-56页 |
| ·论文总结 | 第54-55页 |
| ·工作展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 攻读学位期间发表论文目录 | 第62页 |
