一维硅纳米材料及镍硅异质结纳米线的制备和表征
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-26页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·一维纳米材料的研究 | 第9-12页 |
| ·硅的基本性质 | 第12-13页 |
| ·一维硅纳米线材料的制备 | 第13-18页 |
| ·硅纳米材料的表征 | 第18-20页 |
| ·一维硅纳米材料的组装 | 第20-21页 |
| ·硅纳米线应用于纳米电子器件 | 第21-24页 |
| ·硅纳米线的金属化 | 第24页 |
| ·课题研究的意义及主要创新点 | 第24-26页 |
| 第二章 高压条件下制备硅纳米线 | 第26-45页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·硅纳米线普适生长机理 | 第26-29页 |
| ·高压裂解法制备硅纳米线 | 第29-40页 |
| ·硅纳米线生长讨论 | 第40-44页 |
| ·总结 | 第44-45页 |
| 第三章 硅纳米针结构的研究 | 第45-58页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·纳米针结构文献综述 | 第45-47页 |
| ·硅纳米针结构的制备 | 第47-56页 |
| ·硅纳米针结构的生长 | 第56-57页 |
| ·总结 | 第57-58页 |
| 第四章 热蒸发法制备超长硅纳米线 | 第58-74页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·实验设备及原材料 | 第58-61页 |
| ·实验部分 | 第61-62页 |
| ·实验结果 | 第62-71页 |
| ·对超长硅纳米线生长的讨论 | 第71-73页 |
| ·总结 | 第73-74页 |
| 第五章 硅纳米线的分散和离心处理 | 第74-87页 |
| ·引言 | 第74页 |
| ·实验所需 | 第74-75页 |
| ·硅纳米线分散 | 第75-82页 |
| ·硅纳米线离心处理 | 第82-85页 |
| ·总结 | 第85-87页 |
| 第六章 硅纳米管及特殊结构硅纳米材料的制备 | 第87-104页 |
| ·引言 | 第87页 |
| ·硅纳米管的稳定性 | 第87-89页 |
| ·热蒸发法制备硅纳米管 | 第89-91页 |
| ·实验结果 | 第91-101页 |
| ·硅纳米管生长机理 | 第101-103页 |
| ·总结 | 第103-104页 |
| 第七章 镍/硅异质结构纳米线退火处理 | 第104-128页 |
| ·引言 | 第104页 |
| ·磁控溅射 | 第104-106页 |
| ·实验设备及原料 | 第106-108页 |
| ·硅纳米线表面镀镍 | 第108-110页 |
| ·镍/硅异质结构纳米线的退火处理 | 第110-118页 |
| ·硅镍异质结纳米线镍硅化物形成的动力学原理 | 第118-119页 |
| ·镀镍硅纳米线电学性能测试的实现方法与结果 | 第119-127页 |
| ·总结 | 第127-128页 |
| 结论 | 第128-130页 |
| 参考文献 | 第130-143页 |
| 发表论文 | 第143-144页 |
| 致谢 | 第144-145页 |
