智能激光防护材料：氧化钒薄膜的生长及其光电性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 1 绪论 | 第10-28页 |
| ·氧化钒薄膜的基本性质 | 第10-16页 |
| ·氧化钒的晶体结构 | 第10-14页 |
| ·二氧化钒的光电特性 | 第14-16页 |
| ·氧化钒薄膜的相变机理分析 | 第16-20页 |
| ·二氧化钒薄膜的能带机理研究 | 第16-17页 |
| ·掺杂对VO_2薄膜的光电性能影响机制研究 | 第17-18页 |
| ·代表性掺杂VO_2薄膜实验结果 | 第18-20页 |
| ·氧化钒薄膜的制备方法及发展趋势 | 第20-25页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射法 | 第22-24页 |
| ·化学气相沉积法 | 第24页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第24-25页 |
| ·氧化钒薄膜在智能激光防护领域的应用 | 第25-27页 |
| ·本论文的主要研究内容及意义 | 第27-28页 |
| 2 氧化钒薄膜的制备与表征 | 第28-39页 |
| ·本论文中氧化钒薄膜的制备方法 | 第28-32页 |
| ·磁控溅射原理 | 第28-30页 |
| ·磁控溅射的特点及应用 | 第30页 |
| ·基片的清洗 | 第30-31页 |
| ·薄膜制备的工艺流程 | 第31-32页 |
| ·氧化钒薄膜的相关表征方法 | 第32-39页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第32-33页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第33-34页 |
| ·透射谱测试(MAYA2000PRO光谱仪) | 第34-35页 |
| ·四探针测电阻 | 第35-39页 |
| 3 氧化钒薄膜的晶体结构测试及分析 | 第39-44页 |
| ·均匀成核的基本理论 | 第39-41页 |
| ·氧化钒薄膜的XRD测试及分析 | 第41-42页 |
| ·氧化钒薄膜的SEM测试及分析 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 4 氧化钒薄膜的光学性能相变机制研究 | 第44-46页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·实验与相关表征方法 | 第44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 5 氧化钒薄膜的电学性能相变机制研究 | 第46-49页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·实验方法 | 第46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
