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偏滤器靶板附近等离子体鞘层特性的模拟研究

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
1 绪论第9-21页
   ·聚变等离子体第9-11页
   ·磁约束聚变装置托卡马克中等离子体与器壁相互作用第11-12页
   ·研究等离子体与器壁相互作用的方法和理论基础第12-20页
     ·研究等离子体-器壁问题常用方法第14-19页
     ·研究等离子体预鞘层和鞘层的意义第19-20页
   ·本文主要内容第20-21页
2 斜磁场作用下等离子体与器壁间整体区域特性研究及分析第21-35页
   ·基本模型和方程第21-26页
   ·参数变量对整体区域特性的影响及分析第26-34页
     ·磁场强度对整体区域特性的影响及分析第27-28页
     ·磁场夹角对整体区域特性的影响第28-30页
     ·碰撞频率对整体区域的影响第30-32页
     ·离子温度对整体区域特性的影响及分析第32-34页
   ·本章小结第34-35页
3 中性区域和非中性区域第35-60页
   ·中性区域预鞘层第36-44页
     ·参数对预鞘层边界点的影响第37-40页
     ·预鞘层中E×B漂移第40-41页
     ·预鞘层中离子速度特性第41-44页
   ·预鞘层边界的特性和鞘层边界点的选取第44-50页
     ·预鞘层边界的特性第45-46页
     ·鞘层边界点的选取第46-50页
   ·鞘层区域模拟结果及分析第50-56页
     ·离子温度对鞘层特性的影响第52-53页
     ·角度对鞘层特性的影响第53-55页
     ·磁场强度对鞘层特性的影响第55-56页
   ·整体区域解和分开解第56-58页
   ·本章小结第58-60页
结论第60-62页
参考文献第62-66页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第66-67页
致谢第67-68页

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