| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 ZnO材料综述 | 第10-21页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第10-13页 |
| ·晶体结构 | 第11-12页 |
| ·能带结构 | 第12页 |
| ·纳米结构 | 第12-13页 |
| ·ZnO的掺杂 | 第13-19页 |
| ·ZnO的n型掺杂 | 第14-15页 |
| ·ZnO的p型掺杂 | 第15-19页 |
| ·ZnO的应用 | 第19-21页 |
| ·透明导电氧化物薄膜(TCO) | 第19-20页 |
| ·作为GaN的缓冲层 | 第20页 |
| ·纳米针尖和共振器 | 第20-21页 |
| 2 ZnO薄膜的制备技术与表征方法 | 第21-30页 |
| ·ZnO薄膜的制备技术 | 第21-25页 |
| ·脉冲激光沉积技术发展过程 | 第21-22页 |
| ·脉冲激光沉积技术基本原理 | 第22-23页 |
| ·离子束辅助脉冲激光沉积 | 第23-24页 |
| ·等离子体辅助脉冲激光沉积 | 第24-25页 |
| ·ZnO薄膜的表征方法 | 第25-30页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第25-26页 |
| ·透射光谱(Transmittance Spectrum) | 第26页 |
| ·光致发光光谱(PL) | 第26-27页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第27-28页 |
| ·霍尔(Hall)效应 | 第28-30页 |
| 3 离子束清洗蓝宝石基片对薄膜生长的影响 | 第30-36页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第30-31页 |
| ·结果与分析 | 第31-34页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第31页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第31-33页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 4 离子束辅助脉冲激光沉积N掺杂ZnO薄膜 | 第36-42页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第36页 |
| ·结果与分析 | 第36-41页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第36-38页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第38-40页 |
| ·薄膜的电学性能 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 5 等离子体辅助脉冲激光沉积N掺杂ZnO薄膜 | 第42-47页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第42页 |
| ·结果与分析 | 第42-46页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第42-43页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第43-45页 |
| ·薄膜的电学性能 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |