| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-13页 |
| 第一章:绪论 | 第13-27页 |
| ·高分辨电子束曝光的研究背景 | 第13-16页 |
| ·高分辨电子束曝光的研究现状 | 第16-18页 |
| ·高分辨电子束曝光的应用 | 第18-20页 |
| ·高分辨电子束曝光的主要挑战 | 第20-21页 |
| ·本论文的动机以及主要工作 | 第21-22页 |
| ·论文内容安排 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-27页 |
| 第二章:高分辨电子束曝光的基本理论 | 第27-55页 |
| ·电子束与抗蚀剂的相互作用 | 第27-34页 |
| ·电子束在固体材料中的散射 | 第27-28页 |
| ·电子在抗蚀剂中的轨迹 | 第28-30页 |
| ·点扩散函数与邻近效应 | 第30-34页 |
| ·电子束曝光系统 | 第34-41页 |
| ·电子束曝光系统的硬件组成 | 第34-36页 |
| ·电子束曝光系统的软件控制系统 | 第36-37页 |
| ·电子束曝光系统的参数评价 | 第37-39页 |
| ·电子束曝光系统的分类 | 第39-41页 |
| ·电子束抗蚀剂 | 第41-42页 |
| ·抗蚀剂的分类 | 第41页 |
| ·抗蚀剂工艺 | 第41-42页 |
| ·抗蚀剂的评价标准 | 第42页 |
| ·高分辨电子束曝光的流程 | 第42-44页 |
| ·高分辨电子束曝光的关键指标 | 第44-48页 |
| ·分辨率 | 第44-45页 |
| ·均匀度 | 第45-48页 |
| ·精确度 | 第48页 |
| ·高分辨电子束曝光的工艺参数 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 第三章:10纳米以下电子束曝光的分辨率极限研究 | 第55-90页 |
| ·研究背景 | 第55-56页 |
| ·高分辨电子束曝光分辨率的主要限制因素 | 第56-58页 |
| ·点扩散函数 | 第56-57页 |
| ·显影对比度 | 第57页 |
| ·测量 | 第57-58页 |
| ·10纳米以下电子束曝光的工艺优化 | 第58-60页 |
| ·电子束抗蚀剂曝光前的优化 | 第58-59页 |
| ·曝光过程的优化 | 第59页 |
| ·影过程的优化 | 第59-60页 |
| ·其它参数优化 | 第60页 |
| ·实验结果 | 第60-63页 |
| ·灵敏度与对比度 | 第60页 |
| ·分辨率 | 第60-63页 |
| ·高分辨电子束曝光的TEM测量 | 第63-73页 |
| ·研究背景 | 第63页 |
| ·TEM制样与测量过程 | 第63-65页 |
| ·TEM测量结果与SEM的比较 | 第65-67页 |
| ·电子束曝光的分辨率极限研究 | 第67-70页 |
| ·点与线扩散函数的TEM测量与模拟 | 第70-72页 |
| ·TEM表征的缺陷讨论 | 第72-73页 |
| ·电子束曝光的AFM测量 | 第73-76页 |
| ·AFM测量的策略与制样 | 第73-74页 |
| ·测量结果与分析 | 第74-76页 |
| ·电子束曝光分辨率限制的分析 | 第76-79页 |
| ·图形的剂量分布计算 | 第76-78页 |
| ·HSQ分辨率极限的讨论 | 第78-79页 |
| ·负胶PMMA的极限分辨率研究 | 第79-83页 |
| ·研究背景 | 第79-80页 |
| ·对比度曲线与剂量 | 第80页 |
| ·负胶PMMA分辨率极限的研究 | 第80-83页 |
| ·高分辨电子束曝光的其它分辨限制 | 第83-85页 |
| ·最佳剂量与深宽比 | 第83-84页 |
| ·束流与束斑尺寸 | 第84页 |
| ·加速电压 | 第84-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-90页 |
| 第四章:电子束曝光和辐照直接制备碳纳米结构 | 第90-118页 |
| ·研究背景 | 第90-92页 |
| ·高能电子束原位辐照PMMA纳米纤维制备石墨纳米结构 | 第92-104页 |
| ·超细PMMA纤维的制备 | 第92-94页 |
| ·高分辨透射电镜原位实验 | 第94-95页 |
| ·电子束原位辐照超细PMMA纳米纤维制备石墨烯纳米带 | 第95-101页 |
| ·电子束辐照PMMA制备富勒烯、石墨纳米尖和纳米孔 | 第101-104页 |
| ·本节小结 | 第104页 |
| ·电子束曝光直接制备图形化碳纳米结构 | 第104-112页 |
| ·实验过程 | 第104-106页 |
| ·表面形貌的研究 | 第106-110页 |
| ·EDX与拉曼光谱 | 第110-111页 |
| ·本节小结 | 第111-112页 |
| ·讨论与结论 | 第112页 |
| ·本章小结 | 第112-113页 |
| 参考文献 | 第113-118页 |
| 第五章:基于电子束曝光的毛细力自组装研究 | 第118-153页 |
| ·研究背景 | 第118-120页 |
| ·高分辨电子束曝光的困难 | 第118页 |
| ·自组装与功能结构的自组装 | 第118-120页 |
| ·毛细力与毛细力自组装 | 第120页 |
| ·电子束曝光显影中的毛细力行为研究 | 第120-127页 |
| ·高深宽比纳米结构的力学稳定性 | 第120-121页 |
| ·毛细力引起高深宽比纳米结构的坍塌 | 第121-126页 |
| ·毛细力引起纳米棒坍塌的结果分析与讨论 | 第126-127页 |
| ·毛细力引起的纳米凝聚研究 | 第127-140页 |
| ·不对称毛细力及其设计 | 第128页 |
| ·简单的毛细力自组装 | 第128-133页 |
| ·多元素的毛细力自组装 | 第133-137页 |
| ·复杂的分层次的毛细力自组装 | 第137-140页 |
| ·本节小结 | 第140页 |
| ·基于毛细力自组装的光刻技术研究 | 第140-146页 |
| ·基于高深宽比结构之间毛细力的光刻 | 第140-143页 |
| ·基于倾斜形貌的光刻 | 第143-144页 |
| ·基于各向异性形貌的毛细力光刻 | 第144-146页 |
| ·本节小结 | 第146页 |
| ·讨论与结论 | 第146-148页 |
| ·本章小结 | 第148页 |
| 参考文献 | 第148-153页 |
| 第六章:总结与展望 | 第153-158页 |
| ·本论文的工作总结 | 第153-156页 |
| ·电子束曝光分辨率极限工艺与它的机理研究 | 第153-154页 |
| ·电子束辐照与曝光PMMA直接制备石墨纳米结构 | 第154-155页 |
| ·基于高分辨电子束曝光的可控毛细力自组装 | 第155-156页 |
| ·未来工作展望 | 第156-158页 |
| 致谢 | 第158-160页 |
| 博士期间的研究成果 | 第160-163页 |
