| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 概述 | 第10-30页 |
| ·高电荷态离子的基本特性 | 第11-12页 |
| ·高电荷态离子的产生装置 | 第12-17页 |
| ·加速器产生的高电荷态离子 | 第12-13页 |
| ·电子回旋共振离子源(Electron Cyclotron Resonance—ECR) | 第13-15页 |
| ·电子束离子阱\源(Electronic Beam Ion Trap\Source—EBIT\S) | 第15-17页 |
| ·高电荷态离子与固体材料表面相互作用过程 | 第17-18页 |
| ·高电荷态离子与固体材料表面相互作用的研究进展 | 第18-28页 |
| ·高电荷态离子与固体材料表面相互作用的相关实验简介 | 第18-23页 |
| ·高电荷态离子与固体材料表面相互作用的理论模型 | 第23-28页 |
| ·本论文的研究内容 | 第28-30页 |
| 第二章 高电荷态离子轰击固体表面引起的溅射现象研究 | 第30-83页 |
| ·中国科学院兰州重离子加速器国家实验室ECR离子源平台 | 第30-34页 |
| ·14.5 GHz ECR离子源 | 第30-31页 |
| ·分析磁铁和束流光学系统 | 第31-32页 |
| ·实验靶室和探测器系统 | 第32-34页 |
| ·溅射实验中样品的制备 | 第34-35页 |
| ·高电荷态离子轰击固体材料表面产生的溅射实验结果及分析 | 第35-80页 |
| ·溅射产额与入射离子的入射角相关性 | 第36-52页 |
| ·溅射产额与入射离子势能的相关性 | 第52-64页 |
| ·溅射产额与入射离子动能相关性 | 第64-76页 |
| ·不同材料表面的势能溅射现象比较分析 | 第76-80页 |
| ·本章小结 | 第80-83页 |
| 第三章 高电荷态离子轰击云母表面产生的纳米缺陷研究 | 第83-95页 |
| ·双离子源实验平台装置介绍 | 第83-85页 |
| ·原子力显微镜(Atomic Force Microscopy)介绍 | 第85-87页 |
| ·高电荷态离子辐照后的云母表面纳米蚀丘的产生 | 第87-93页 |
| ·本章小结 | 第93-95页 |
| 第四章 高电荷态离子辐照HOPG产生类金刚石结构研究 | 第95-110页 |
| ·320KV平台实验装置及分析方法介绍 | 第96-98页 |
| ·纳米类金刚石结构的产生 | 第98-108页 |
| ·本章小结 | 第108-110页 |
| 第五章 全文总结 | 第110-115页 |
| 参考文献 | 第115-120页 |
| 论文发表情况 | 第120-121页 |
| 致谢 | 第121页 |
