温度变化对近红外光学薄膜的应力和光学特性影响研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 引言 | 第10-18页 |
| 1.1 课题研究背景和意义 | 第10-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-16页 |
| 1.2.1 薄膜应力的发展 | 第13-14页 |
| 1.2.2 薄膜的温度稳定性研究 | 第14-16页 |
| 1.3 论文的主要内容 | 第16-18页 |
| 第2章 光学薄膜应力的基础理论研究 | 第18-32页 |
| 2.1 光学薄膜应力的分类 | 第18页 |
| 2.2 光学薄膜应力的形成机制 | 第18-22页 |
| 2.2.1 内应力 | 第19-22页 |
| 2.2.2 热应力 | 第22页 |
| 2.3 光学薄膜应力的理论分析模型 | 第22-27页 |
| 2.3.1 热应力模型介绍 | 第23页 |
| 2.3.2 热应力模型建立 | 第23-27页 |
| 2.4 热应力分析模型的实际应用 | 第27-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-32页 |
| 第3章 薄膜热应力及光学特性变化研究 | 第32-55页 |
| 3.1 光学薄膜SiO_2和Si的制备 | 第32-34页 |
| 3.1.1 镀膜设备的介绍 | 第32-34页 |
| 3.1.2 SiO_2和Si样品的制备 | 第34页 |
| 3.2 SiO_2和Si薄膜的应力分析 | 第34-43页 |
| 3.2.1 样品变温平台介绍 | 第34-35页 |
| 3.2.2 应力的测量方法 | 第35-37页 |
| 3.2.3 SiO_2薄膜的应力实验结果及分析 | 第37-41页 |
| 3.2.4 Si薄膜的应力实验结果及分析 | 第41-43页 |
| 3.3 SiO_2和Si薄膜的光学特性分析 | 第43-54页 |
| 3.3.1 光学特性的测量方法 | 第43-47页 |
| 3.3.2 SiO_2薄膜的实验结果及分析 | 第47-52页 |
| 3.3.3 Si薄膜的实验结果及分析 | 第52-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 温度变化对金属薄膜的光学特性影响 | 第55-69页 |
| 4.1 金属Ag膜的应用 | 第55-57页 |
| 4.2 金属Ag反射镜设计与制备 | 第57-59页 |
| 4.2.1 Ag反射镜设计 | 第57-59页 |
| 4.2.2 Ag反射镜的制备 | 第59页 |
| 4.3 温度变化对Ag反射镜光学特性影响研究 | 第59-67页 |
| 4.3.1 Ag反射镜相关特性测量方法 | 第59-61页 |
| 4.3.2 测量的实验结果 | 第61-66页 |
| 4.3.3 讨论与分析 | 第66-67页 |
| 4.4 本章小结 | 第67-69页 |
| 第5章 结论与展望 | 第69-71页 |
| 5.1 对论文的总结 | 第69-70页 |
| 5.2 对下一步工作的展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第76页 |
