改性铁酸铋薄膜的结构、光谱及多铁性
| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第1章 引言 | 第12-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-16页 |
| 1.1.1 铁电性 | 第12-14页 |
| 1.1.2 铁磁性 | 第14-16页 |
| 1.1.3 铁弹性 | 第16页 |
| 1.2 多铁性材料的研究历史 | 第16-17页 |
| 1.3 多铁材料铁酸铋 | 第17-21页 |
| 1.3.1 改良的铁酸铋陶瓷 | 第19-21页 |
| 1.4 多铁材料的应用前景 | 第21页 |
| 1.5 本论文研究的意义、思路及主要内容 | 第21-23页 |
| 第2章 薄膜生长与制备 | 第23-32页 |
| 2.1 脉冲激光沉积系统 | 第23-29页 |
| 2.1.1 沉积特点 | 第23-24页 |
| 2.1.2 真空系统 | 第24-25页 |
| 2.1.3 激光器 | 第25-27页 |
| 2.1.4 反射高能电子衍射 | 第27-29页 |
| 2.2 薄膜生长工艺参数 | 第29-32页 |
| 2.2.1 薄膜的生长动力学 | 第30页 |
| 2.2.2 薄膜生长参数 | 第30-32页 |
| 第3章 改性铁酸铋薄膜的结构与形貌 | 第32-40页 |
| 3.1 BFO薄膜的结构 | 第32-35页 |
| 3.1.1 X射线衍射 | 第32-33页 |
| 3.1.2 扫描电子电镜 | 第33-34页 |
| 3.1.3 X线光电子能谱分析技术 | 第34-35页 |
| 3.1.4 原子力显微镜 | 第35页 |
| 3.2 XRD,SEM,XPS及AFM结果与分析 | 第35-40页 |
| 第4章 薄膜的电学、磁学及磁电耦合测试 | 第40-54页 |
| 4.1 电学测试 | 第40-45页 |
| 4.1.1 介电常数和损耗 | 第40-43页 |
| 4.1.2 阿伦尼斯定律 | 第43-44页 |
| 4.1.3 P-E电滞回线 | 第44-45页 |
| 4.2 磁学测试 | 第45页 |
| 4.3 磁电耦合测试 | 第45-48页 |
| 4.4 拉曼光谱 | 第48-49页 |
| 4.5 (111)取向及(100)取向薄膜 | 第49-54页 |
| 4.5.1 (111)取向薄膜 | 第50-51页 |
| 4.5.2 (100)取向薄膜 | 第51-54页 |
| 第5章 总结与展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 致谢 | 第61-63页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第63页 |
