| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 导言 | 第11-12页 |
| 1.2 纳米多层膜概述以及制备方法 | 第12-15页 |
| 1.3 纳米结构材料的自蔓延反应特性研究 | 第15-16页 |
| 1.4 国内外关于纳米多层膜的反应机理的研究进展 | 第16-19页 |
| 1.4.1 试验研究 | 第16-18页 |
| 1.4.2 模拟研究 | 第18-19页 |
| 1.5 反应性纳米多层膜辅助连接的研究现状 | 第19-26页 |
| 1.5.1 金属连接中的应用 | 第20-22页 |
| 1.5.2 非金属连接中的应用 | 第22-25页 |
| 1.5.3 其他领域中的应用 | 第25-26页 |
| 1.6 主要研究意义、研究内容 | 第26-27页 |
| 第2章 试验材料及研究方法 | 第27-35页 |
| 2.1 纳米多层膜的选用 | 第27-28页 |
| 2.1.1 纳米多层膜的成分的设计 | 第27-28页 |
| 2.2 试验材料 | 第28-29页 |
| 2.2.1 TC4钛合金 | 第28页 |
| 2.2.2 泡沫碳 | 第28-29页 |
| 2.3 试验设备及方法 | 第29-33页 |
| 2.3.1 磁控溅射设备及薄膜制备方法 | 第29-30页 |
| 2.3.2 纳米多层膜热力学性能的研究设备及方法 | 第30页 |
| 2.3.3 扩散焊试验设备及方法 | 第30-31页 |
| 2.3.4 钎焊试验设备及方法 | 第31-33页 |
| 2.4 性能检测与微观分析 | 第33-35页 |
| 2.4.1 钎焊接头强度检测 | 第33页 |
| 2.4.2 纳米压痕硬度检测设备 | 第33-34页 |
| 2.4.3 微观组织观察 | 第34-35页 |
| 第3章 Ti/Ni纳米多层膜的制备工艺和微观表征 | 第35-43页 |
| 3.1 工艺参数对Ti/Ni纳米多层膜的影响 | 第35-36页 |
| 3.1.1 靶材及衬底预处理 | 第35页 |
| 3.1.2 薄膜制备工艺 | 第35-36页 |
| 3.2 纳米多层膜截面SEM表征 | 第36-38页 |
| 3.3 纳米多层膜的热力学性能 | 第38-39页 |
| 3.3.1 纳米多层膜体系的热力学计算 | 第38-39页 |
| 3.4 纳米多层膜的反应速率及产物 | 第39-41页 |
| 3.4.1 纳米多层膜的自蔓延速率 | 第39-40页 |
| 3.4.2 纳米多层膜的XRD分析 | 第40-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 Ti/Ni纳米多层膜钎料真空扩散焊钛合金接头组织和性能研究 | 第43-59页 |
| 4.1 纳米多层膜真空扩散焊TC4钛合金 | 第43-44页 |
| 4.2 扩散焊温度和薄膜成分对接头组织和性能的影响 | 第44-47页 |
| 4.2.1 焊接温度和薄膜成分对接头剪切强度的影响 | 第44-45页 |
| 4.2.2 焊接温度和薄膜成分对接头拉伸强度的影响 | 第45-47页 |
| 4.3 焊接温度和薄膜成分对接头硬度的影响 | 第47-48页 |
| 4.4 焊接接头形貌及组织成分的分析 | 第48-55页 |
| 4.4.1 薄膜成分对TC4接头的影响 | 第48-51页 |
| 4.4.2 温度对TC4接头的影响 | 第51-53页 |
| 4.4.3 875℃扩散焊接头组织EBSD分析 | 第53-55页 |
| 4.5 钛镍纳米多层膜TLP扩散焊接头微观组织演变机理 | 第55-56页 |
| 4.6 小结 | 第56-59页 |
| 第5章 Ti/Si纳米多层膜的制备表征和自蔓延反应连接应用 | 第59-75页 |
| 5.1 纳米多层膜的制备 | 第59-61页 |
| 5.2 钛硅纳米多层膜截面表征 | 第61-63页 |
| 5.3 钛硅纳米多层膜的表面形貌 | 第63-65页 |
| 5.4 不同基体对纳米多层膜反应速度的影响 | 第65-67页 |
| 5.5 钛硅纳米多层膜的反应特性 | 第67-70页 |
| 5.5.1 纳米多层膜的差热分析 | 第67页 |
| 5.5.2 纳米多层膜反应产物分析 | 第67-69页 |
| 5.5.3 Ti/Si纳米多层膜自蔓延反应产物的SEM分析 | 第69-70页 |
| 5.6 Ti/Si纳米多层膜辅助钎焊 | 第70-73页 |
| 5.7 小结 | 第73-75页 |
| 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 攻读硕士学位期间所取得的学术成果 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
