铁磁材料表面缺陷的磁光成像检测方法研究
摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6页 |
第一章 绪论 | 第10-18页 |
1.1 课题的背景和意义 | 第10-11页 |
1.2 国内外研究历史与现状 | 第11-16页 |
1.3 本文研究目标及内容安排 | 第16-18页 |
第二章 磁光成像法的基本原理 | 第18-28页 |
2.1 法拉第磁光效应 | 第18-25页 |
2.1.1 自然旋光效应 | 第18-20页 |
2.1.2 法拉第磁光效应 | 第20-24页 |
2.1.3 马吕斯定律 | 第24-25页 |
2.2 磁场的获取 | 第25-27页 |
2.3 本章小结 | 第27-28页 |
第三章 磁光成像检测方案设计 | 第28-37页 |
3.1 磁光成像装置的一般组成 | 第28-34页 |
3.1.1 两个典型结构 | 第28-30页 |
3.1.2 涡流激励 | 第30-31页 |
3.1.3 光路 | 第31-32页 |
3.1.4 磁光传感器 | 第32-34页 |
3.2 基于漏磁的磁光成像实验平台方案设计 | 第34-35页 |
3.3 本章小结 | 第35-37页 |
第四章 磁光成像检测方案实现 | 第37-56页 |
4.1 磁场产生方式 | 第37-39页 |
4.2 磁光传感器 | 第39-43页 |
4.2.1 磁光传感器性能要求 | 第39页 |
4.2.2 磁光材料的选择 | 第39-41页 |
4.2.3 反射膜和抗反射膜对光路传播的影响 | 第41-43页 |
4.3 激光光源 | 第43-48页 |
4.3.1 激光器的组成与特点 | 第43-44页 |
4.3.2 红光激光器对比 | 第44-47页 |
4.3.3 氦氖激光器 | 第47-48页 |
4.4 激光扩束镜 | 第48-50页 |
4.5 偏振片 | 第50-53页 |
4.5.1 偏振片的作用 | 第50-51页 |
4.5.2 消光比 | 第51-53页 |
4.6 图像传感器 | 第53-55页 |
4.7 本章小结 | 第55-56页 |
第五章 实验与分析 | 第56-69页 |
5.1 磁光成像检测实验平台 | 第56-58页 |
5.2 试件 | 第58-59页 |
5.2.1 无涂层的表面缺陷 | 第58-59页 |
5.2.2 覆盖涂层的表面缺陷 | 第59页 |
5.3 磁光成像缺陷检测实验 | 第59-67页 |
5.3.1 漏磁测量 | 第59-64页 |
5.3.2 无涂层的表面缺陷成像 | 第64-65页 |
5.3.3 覆盖涂层的表面缺陷成像 | 第65-67页 |
5.4 影响实验的几个因素 | 第67-68页 |
5.5 本章小结 | 第68-69页 |
第六章 总结与展望 | 第69-71页 |
6.1 总结 | 第69页 |
6.2 展望 | 第69-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-75页 |
攻硕期间取得的研究成果 | 第75-76页 |