| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 磁性材料 | 第10-12页 |
| 1.1.1 磁性材料的分类及磁化机理 | 第10-12页 |
| 1.2 Fe,Co基薄膜现状 | 第12-18页 |
| 1.2.1 软磁薄膜 | 第12-14页 |
| 1.2.2 永磁薄膜 | 第14-16页 |
| 1.2.3 Co/Cu巨磁电阻(GMR)薄膜 | 第16-18页 |
| 1.3 本论文主要的研究内容 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-23页 |
| 第二章 Fe,Co基薄膜的制备与表征方法 | 第23-39页 |
| 2.1 制备Fe,Co基薄膜的常见方法 | 第23-27页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积技术(PLD) | 第23-26页 |
| 2.1.2 磁控溅射技术 | 第26页 |
| 2.1.3 电沉积技术 | 第26-27页 |
| 2.2 薄膜的表征方法 | 第27-34页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第27-29页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第29-30页 |
| 2.2.3 物性综合测量系统(PPMS) | 第30-31页 |
| 2.2.4 振动样品磁强计(VSM) | 第31-32页 |
| 2.2.5 X射线光电子能谱(XPS) | 第32-33页 |
| 2.2.6 磁光克尔效应(MOKE) | 第33-34页 |
| 2.3 本实验方法及表征 | 第34-37页 |
| 2.3.1 基片的清洗 | 第34-35页 |
| 2.3.2 Fe,Co基薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 2.3.3 本实验样品的表征 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |
| 第三章 Fe_(1.2)Co薄膜的温度特性与磁化机理的研究 | 第39-52页 |
| 3.1 引言 | 第39-40页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第40-48页 |
| 3.2.1 厚度对薄膜结构的影响 | 第40-41页 |
| 3.2.2 薄膜的成分分析 | 第41-43页 |
| 3.2.3 厚度对Fe_(1.2)Co薄膜磁性的影响 | 第43-44页 |
| 3.2.4 Fe_(1.2)Co薄膜的磁矩分布 | 第44-45页 |
| 3.2.5 薄膜的温度特性 | 第45-47页 |
| 3.2.6 Fe_(1.2)Co薄膜的磁光克尔效应 | 第47-48页 |
| 3.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
| 第四章 Co_(1-x)Cu_x磁性合金薄膜的结构及矫顽力机理研究 | 第52-65页 |
| 4.1 引言 | 第52-53页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第53-60页 |
| 4.2.1 Cu含量及退火对Co_(1-x)Cu_x薄膜结构的影响 | 第53-54页 |
| 4.2.2 Co_(1-x)Cu_x薄膜的成分分析 | 第54-55页 |
| 4.2.3 Cu含量对于Co_(1-x)Cu_x薄膜磁性的影响 | 第55-57页 |
| 4.2.4 磁场退火对Co_(0.95)Cu_(0.05)薄膜的磁矩分布的影响 | 第57-58页 |
| 4.2.5 Co_(0.95)Cu_(0.05)薄膜的温度特性 | 第58-60页 |
| 4.3 本章小结 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 第五章 结论 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第68页 |
