光学介质薄膜的激光损伤特性研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-13页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-9页 |
| ·国内外研究状况 | 第9-12页 |
| ·本文的研究内容 | 第12-13页 |
| 2 实验及测试方法 | 第13-28页 |
| ·离子束辅助沉积技术及镀膜设备 | 第13-19页 |
| ·离子束辅助沉积技术原理 | 第13-15页 |
| ·实验设备 | 第15-19页 |
| ·薄膜制备流程及技术路线 | 第19-21页 |
| ·薄膜制备流程 | 第19-20页 |
| ·技术路线 | 第20-21页 |
| ·薄膜激光损伤特性测试 | 第21-25页 |
| ·激光损伤判定方法 | 第22页 |
| ·损伤阈值测试方法 | 第22-23页 |
| ·损伤阈值确定方法 | 第23页 |
| ·激光损伤特性测试平台 | 第23-25页 |
| ·其它测试分析方法 | 第25-27页 |
| ·光谱分析法 | 第25页 |
| ·椭偏分析法 | 第25-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 3 激光损伤机理和薄膜材料优选 | 第28-39页 |
| ·损伤机理 | 第28-30页 |
| ·影响激光薄膜损伤阈值的因素 | 第30-31页 |
| ·激光薄膜镀膜材料优选 | 第31-37页 |
| ·薄膜材料选择的依据 | 第31-32页 |
| ·对目前常用材料的分析 | 第32-36页 |
| ·所选材料基本性质 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 4 氧化物薄膜的激光损伤特性研究 | 第39-54页 |
| ·HfO_2薄膜的激光损伤特性 | 第39-48页 |
| ·制备工艺条件 | 第39页 |
| ·损伤测试实验 | 第39-40页 |
| ·损伤测试结果 | 第40-47页 |
| ·光学特性测试 | 第47-48页 |
| ·退火对损伤阈值的影响 | 第48页 |
| ·SiO_2薄膜的激光损伤特性 | 第48-51页 |
| ·制备工艺条件 | 第48页 |
| ·损伤测试结果 | 第48-51页 |
| ·ZrO_2薄膜的激光损伤特性 | 第51-53页 |
| ·制备工艺条件 | 第51页 |
| ·损伤测试结果 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 5 氟化物薄膜的激光损伤特性研究 | 第54-62页 |
| ·MgF_2薄膜的激光损伤特性 | 第54-56页 |
| ·损伤阈值 | 第54-56页 |
| ·损伤形貌 | 第56页 |
| ·BaF_2薄膜的激光损伤特性 | 第56-58页 |
| ·损伤阈值 | 第56-58页 |
| ·损伤形貌 | 第58页 |
| ·YF_3薄膜的激光损伤特性 | 第58-60页 |
| ·损伤形貌 | 第58-60页 |
| ·损伤形貌 | 第60页 |
| ·三种氟化物损伤形貌对比 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 6 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
