中文摘要 | 第5-7页 |
英文摘要 | 第7-8页 |
本论文专用术语、符号、变量、缩略词注释表 | 第12-13页 |
第一章 绪论 | 第13-45页 |
1.1 有机硅聚合物简介 | 第13页 |
1.2 聚硅氧烷 | 第13-16页 |
1.2.1 制备方法 | 第13-16页 |
1.2.2 性能及应用 | 第16页 |
1.3 聚倍半硅氧烷 | 第16-19页 |
1.3.1 概述 | 第16-17页 |
1.3.2 应用 | 第17-19页 |
1.4 有机硅化合物制备基本方法 | 第19页 |
1.5 点击化学 | 第19-24页 |
1.5.1 概述 | 第19-21页 |
1.5.2 TEC点击反应的应用 | 第21-24页 |
1.6 点击化学在有机硅材料中的应用 | 第24-33页 |
1.6.1 聚硅氧烷功能化 | 第24-26页 |
1.6.2 聚硅氧烷弹性体 | 第26-28页 |
1.6.3 有机硅表面活性剂 | 第28-29页 |
1.6.4 光电材料 | 第29-31页 |
1.6.5 其他方面 | 第31-33页 |
1.7 本论文的研究目的和主要内容 | 第33-34页 |
参考文献 | 第34-45页 |
第二章 基于巯-烯点击反应合成聚硅氧烷基两亲性共聚合物 | 第45-64页 |
2.1 引言 | 第45-46页 |
2.2 实验部分 | 第46-50页 |
2.2.1 试剂与原料 | 第46-47页 |
2.2.2 乙烯基聚硅氧烷的合成(PDMS-Vi和sPDMS-Vi) | 第47-48页 |
2.2.3 巯基聚醚的合成(PEG-SH) | 第48页 |
2.2.4 共聚物PEG-b-PDMS-b-PEG和PDMS-g-PEG的合成 | 第48-49页 |
2.2.5 表征手段与仪器 | 第49-50页 |
2.2.6 临界聚集浓度(CAC)的测量 | 第50页 |
2.2.7 动态光散射(DLS) | 第50页 |
2.3 结果与讨论 | 第50-58页 |
2.3.1 聚合物结构表征 | 第50-51页 |
2.3.2 两亲性共聚物的表征 | 第51-53页 |
2.3.3 共聚物水溶液自组装行为 | 第53-57页 |
2.3.4 热稳定性分析 | 第57-58页 |
2.4 本章小结 | 第58页 |
参考文献 | 第58-64页 |
第三章 功能化聚倍半硅氧烷(POSS)的理论与实验研究 | 第64-81页 |
3.1 引言 | 第64-65页 |
3.2 实验部分 | 第65-66页 |
3.2.1 原料与试剂 | 第65页 |
3.2.2 测量方法 | 第65页 |
3.2.3 八巯丙基POSS的合成((C_3H_6SH)_8Si_8O_(12)) | 第65-66页 |
3.2.4 八乙烯基POSS的合成((C_2H_3)_8Si_8O_(12)) | 第66页 |
3.3 计算方法 | 第66-67页 |
3.4 结果与讨论 | 第67-75页 |
3.4.1 结构分析 | 第67-69页 |
3.4.2 红外光谱 | 第69-72页 |
3.4.3 ~1H-NMR,~(13)C-NMR和~(29)Si-NMR性质 | 第72-74页 |
3.4.4 电子结构 | 第74-75页 |
3.5 本章小结 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-81页 |
第四章 基于巯-烯点击反应制备八取代POSS-PEG两亲性聚合物 | 第81-101页 |
4.1 引言 | 第81-82页 |
4.2 实验部分 | 第82-85页 |
4.2.1 试剂与原料 | 第82-83页 |
4.2.2 八巯丙基聚倍半硅氧烷的合成(POSS-SH) | 第83页 |
4.2.3 八聚醚功能化倍半硅氧烷聚合物的合成 | 第83-84页 |
4.2.4 表征手段与仪器 | 第84页 |
4.2.5 临界胶束浓度(CMC)的测量 | 第84页 |
4.2.6 动态光散射(DLS) | 第84-85页 |
4.3 结果与讨论 | 第85-95页 |
4.3.1 八巯丙基倍半硅氧烷的表征 | 第85-87页 |
4.3.2 两亲性聚合物的表征 | 第87-89页 |
4.3.3 POSS-PEG聚合物自组装行为 | 第89-92页 |
4.3.4 热响应聚集行为 | 第92-93页 |
4.3.5 热稳定性分析 | 第93-95页 |
4.4 本章小结 | 第95页 |
参考文献 | 第95-101页 |
第五章 结论与展望 | 第101-103页 |
致谢 | 第103-104页 |
攻读博士学位期间已发表或录用的论文 | 第104-105页 |
附录 | 第105-110页 |