中文摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-20页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 半导体光催化技术的应用 | 第11-12页 |
1.3 半导体光催化原理 | 第12-13页 |
1.4 TiO_2光催化材料 | 第13-15页 |
1.4.1 金红石相TiO_2的结构与性质 | 第13-14页 |
1.4.2 金红石相TiO_2在应用中的局限 | 第14-15页 |
1.5 金红石相TiO_2阵列薄膜 | 第15-17页 |
1.5.1 金红石相TiO_2阵列薄膜光催化反应机理 | 第15页 |
1.5.2 金红石相TiO_2阵列薄膜材料制备 | 第15-17页 |
1.6 金红石相TiO_2阵列薄膜掺杂、改性 | 第17-19页 |
1.6.1 复合半导体改性金红石相TiO_2阵列薄膜 | 第17-18页 |
1.6.2 贵金属沉积改性金红石相TiO_2阵列薄膜 | 第18页 |
1.6.3 非金属掺杂改性金红石相TiO_2阵列薄膜 | 第18-19页 |
1.7 主要研究内容 | 第19-20页 |
第2章 实验材料及方法 | 第20-29页 |
2.1 实验试剂及仪器 | 第20-22页 |
2.1.1 实验原料与试剂 | 第20-21页 |
2.1.2 实验仪器与设备 | 第21-22页 |
2.2 金红石TiO_2阵列薄膜表征 | 第22-24页 |
2.2.1 X射线衍射 | 第22页 |
2.2.2 拉曼光谱 | 第22页 |
2.2.3 X-射线光电子能谱 | 第22-23页 |
2.2.4 紫外-可见漫反射 | 第23页 |
2.2.5 扫描电子显微镜 | 第23页 |
2.2.6 透射电子显微镜 | 第23-24页 |
2.3 Co掺杂金红石TiO_2阵列薄膜光催化性能评估 | 第24-29页 |
2.3.1 染料的选择 | 第24-25页 |
2.3.2 亚甲基蓝标准曲线的绘制 | 第25-26页 |
2.3.3 光催化降解染料 | 第26-27页 |
2.3.4 重复性能研究 | 第27页 |
2.3.5 Fe_2O_3/金红石TiO_2阵列薄膜光电化学性能 | 第27-29页 |
第3章 金红石TiO_2阵列薄膜的制备和表征 | 第29-38页 |
3.1 金红石TiO_2阵列薄膜的制备 | 第29页 |
3.2 反应条件对金红石TiO_2阵列薄膜的影响 | 第29-35页 |
3.2.1 不同浓度钛酸丁酯对金红石TiO_2阵列薄膜的影响 | 第29-32页 |
3.2.2 不同反应时间金红石TiO_2阵列薄膜的影响 | 第32-35页 |
3.3 金红石TiO_2阵列薄膜表征分析 | 第35-37页 |
3.3.1 拉曼光谱 | 第36页 |
3.3.2 X射线光电子能谱分析 | 第36-37页 |
3.4 本章小结 | 第37-38页 |
第4章 Fe_2O_3/金红石TiO_2阵列薄膜的制备和表征 | 第38-51页 |
4.1 Fe_2O_3/金红石TiO_2阵列薄膜的制备 | 第38-39页 |
4.2 Fe_2O_3/金红石TiO_2阵列薄膜的表征 | 第39-49页 |
4.2.1 X射线衍射 | 第39-40页 |
4.2.2 扫描电子显微镜和投射电子显微镜 | 第40-42页 |
4.2.3 X射线光电子能谱分析 | 第42-45页 |
4.2.4 紫外可见漫反射 | 第45-46页 |
4.2.5 光电化学性能研究 | 第46-49页 |
4.3 本章小结 | 第49-51页 |
第5章 Co掺杂金红石TiO_2阵列薄膜的制备和表征 | 第51-60页 |
5.1 Co掺杂的金红石TiO_2阵列薄膜的制备 | 第51-52页 |
5.2 掺杂的金红石TiO_2阵列薄膜的表征 | 第52-55页 |
5.2.1 X射线衍射 | 第52页 |
5.2.2 扫描电子显微镜 | 第52-53页 |
5.2.3 紫外可见漫反射 | 第53-54页 |
5.2.4 X射线光电子能谱 | 第54-55页 |
5.3 Co掺杂的金红石TiO_2阵列薄膜的光催化应用 | 第55-59页 |
5.3.1 光催化亚甲基蓝的性能研究 | 第55-58页 |
5.3.2 重复性实验 | 第58-59页 |
5.4 本章小结 | 第59-60页 |
结论 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第71页 |