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金红石TiO2阵列薄膜的制备、掺杂及其性能研究

中文摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第11-20页
    1.1 引言第11页
    1.2 半导体光催化技术的应用第11-12页
    1.3 半导体光催化原理第12-13页
    1.4 TiO_2光催化材料第13-15页
        1.4.1 金红石相TiO_2的结构与性质第13-14页
        1.4.2 金红石相TiO_2在应用中的局限第14-15页
    1.5 金红石相TiO_2阵列薄膜第15-17页
        1.5.1 金红石相TiO_2阵列薄膜光催化反应机理第15页
        1.5.2 金红石相TiO_2阵列薄膜材料制备第15-17页
    1.6 金红石相TiO_2阵列薄膜掺杂、改性第17-19页
        1.6.1 复合半导体改性金红石相TiO_2阵列薄膜第17-18页
        1.6.2 贵金属沉积改性金红石相TiO_2阵列薄膜第18页
        1.6.3 非金属掺杂改性金红石相TiO_2阵列薄膜第18-19页
    1.7 主要研究内容第19-20页
第2章 实验材料及方法第20-29页
    2.1 实验试剂及仪器第20-22页
        2.1.1 实验原料与试剂第20-21页
        2.1.2 实验仪器与设备第21-22页
    2.2 金红石TiO_2阵列薄膜表征第22-24页
        2.2.1 X射线衍射第22页
        2.2.2 拉曼光谱第22页
        2.2.3 X-射线光电子能谱第22-23页
        2.2.4 紫外-可见漫反射第23页
        2.2.5 扫描电子显微镜第23页
        2.2.6 透射电子显微镜第23-24页
    2.3 Co掺杂金红石TiO_2阵列薄膜光催化性能评估第24-29页
        2.3.1 染料的选择第24-25页
        2.3.2 亚甲基蓝标准曲线的绘制第25-26页
        2.3.3 光催化降解染料第26-27页
        2.3.4 重复性能研究第27页
        2.3.5 Fe_2O_3/金红石TiO_2阵列薄膜光电化学性能第27-29页
第3章 金红石TiO_2阵列薄膜的制备和表征第29-38页
    3.1 金红石TiO_2阵列薄膜的制备第29页
    3.2 反应条件对金红石TiO_2阵列薄膜的影响第29-35页
        3.2.1 不同浓度钛酸丁酯对金红石TiO_2阵列薄膜的影响第29-32页
        3.2.2 不同反应时间金红石TiO_2阵列薄膜的影响第32-35页
    3.3 金红石TiO_2阵列薄膜表征分析第35-37页
        3.3.1 拉曼光谱第36页
        3.3.2 X射线光电子能谱分析第36-37页
    3.4 本章小结第37-38页
第4章 Fe_2O_3/金红石TiO_2阵列薄膜的制备和表征第38-51页
    4.1 Fe_2O_3/金红石TiO_2阵列薄膜的制备第38-39页
    4.2 Fe_2O_3/金红石TiO_2阵列薄膜的表征第39-49页
        4.2.1 X射线衍射第39-40页
        4.2.2 扫描电子显微镜和投射电子显微镜第40-42页
        4.2.3 X射线光电子能谱分析第42-45页
        4.2.4 紫外可见漫反射第45-46页
        4.2.5 光电化学性能研究第46-49页
    4.3 本章小结第49-51页
第5章 Co掺杂金红石TiO_2阵列薄膜的制备和表征第51-60页
    5.1 Co掺杂的金红石TiO_2阵列薄膜的制备第51-52页
    5.2 掺杂的金红石TiO_2阵列薄膜的表征第52-55页
        5.2.1 X射线衍射第52页
        5.2.2 扫描电子显微镜第52-53页
        5.2.3 紫外可见漫反射第53-54页
        5.2.4 X射线光电子能谱第54-55页
    5.3 Co掺杂的金红石TiO_2阵列薄膜的光催化应用第55-59页
        5.3.1 光催化亚甲基蓝的性能研究第55-58页
        5.3.2 重复性实验第58-59页
    5.4 本章小结第59-60页
结论第60-61页
参考文献第61-70页
致谢第70-71页
攻读学位期间发表的学术论文第71页

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