用于仿生自清洁微结构的干涉光刻技术研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 研究背景 | 第9页 |
| 1.2 自然界中的特殊润湿现象 | 第9-11页 |
| 1.3 自清洁表面制备方法 | 第11-13页 |
| 1.3.1 刻蚀法 | 第11-12页 |
| 1.3.2 模板法 | 第12页 |
| 1.3.3 分子自组装法 | 第12页 |
| 1.3.4 溶胶凝胶法 | 第12页 |
| 1.3.5 相分离法 | 第12-13页 |
| 1.4 本论文研究的目的和意义 | 第13页 |
| 1.5 本论文主要研究内容 | 第13-14页 |
| 1.6 本章小结 | 第14-15页 |
| 2 自清洁微结构 | 第15-26页 |
| 2.1 自清洁原理 | 第15-16页 |
| 2.1.1 Wenzel模型 | 第15-16页 |
| 2.1.2 Cassie模型 | 第16页 |
| 2.2 自清洁功能表而结构特征分析 | 第16-25页 |
| 2.3 本章小结 | 第25-26页 |
| 3 激光干涉光刻技木 | 第26-33页 |
| 3.1 激光干涉光刻基本原理 | 第26-28页 |
| 3.2 多光束干涉光刻的分类 | 第28-30页 |
| 3.2.1 双光束干涉光刻 | 第28页 |
| 3.2.2 三光束干涉光刻 | 第28-29页 |
| 3.2.3 四光束干涉光刻 | 第29-30页 |
| 3.3 多光束干涉光刻图形仿真计算 | 第30-32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 4 制作表面自清洁结构的多光束干涉光刻系统设计 | 第33-42页 |
| 4.1 系统总体结构 | 第33页 |
| 4.2 系统关键部分分析与讨论 | 第33-38页 |
| 4.2.1 光源的选择 | 第33-34页 |
| 4.2.2 滤波及扩束准直部分 | 第34-35页 |
| 4.2.3 分光系统 | 第35-36页 |
| 4.2.4 样品工件台 | 第36-37页 |
| 4.2.5 系统光路结构 | 第37-38页 |
| 4.3 系统关键组件位置的确定 | 第38-41页 |
| 4.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 5 多光束干涉光刻结果的影响因素分析 | 第42-49页 |
| 5.1 入射光强不同对干涉结果的影响 | 第42-43页 |
| 5.2 入射角度对于涉结果的影响 | 第43-46页 |
| 5.2.1 入射角影响 | 第43-44页 |
| 5.2.2 方位角影响 | 第44-46页 |
| 5.3 基片方位对干涉结果的影响 | 第46页 |
| 5.4 光刻工艺对干涉结果的影响 | 第46-48页 |
| 5.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 6 光刻实验及结果分析 | 第49-61页 |
| 6.1 实验准备 | 第49-51页 |
| 6.1.1 实验光路搭建 | 第49-50页 |
| 6.1.2 样品基片准备 | 第50-51页 |
| 6.2 光刻实验结果 | 第51-55页 |
| 6.3 实验样品的接触角测量及自清洁性能分析 | 第55-60页 |
| 6.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 7 结论 | 第61-63页 |
| 7.1 全文总结 | 第61-62页 |
| 7.2 展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第66页 |
| 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
