| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 超导材料的发展 | 第11-13页 |
| 1.1.1 低温超导阶段 | 第11-12页 |
| 1.1.2 高温超导阶段 | 第12-13页 |
| 1.2 高温超导体的结构特点 | 第13-14页 |
| 1.3 Y系高温超导体结构 | 第14-17页 |
| 1.3.1 YBa_2Cu_3O_(7-δ)晶体结构 | 第14-15页 |
| 1.3.2 YBa_2Cu_4O_8晶体结构 | 第15-17页 |
| 1.4 YBa_2Cu_4O_8超导单晶的制备技术 | 第17-18页 |
| 1.5 YBa_2Cu_4O_8超导薄膜的制备技术 | 第18-21页 |
| 1.5.1 脉冲激光沉积(PLD) | 第19-20页 |
| 1.5.2 溅射镀膜法(Sputtering) | 第20-21页 |
| 1.6 薄膜LITV效应 | 第21-22页 |
| 1.7 本论文工作目的、意义及难点 | 第22-25页 |
| 第二章 实验和测试方法 | 第25-35页 |
| 2.1 实验过程 | 第25-29页 |
| 2.1.1 固相烧结法合成靶材 | 第26页 |
| 2.1.2 溶胶-凝胶方法合成靶材 | 第26-27页 |
| 2.1.3 脉冲激光沉积技术制备薄膜 | 第27-29页 |
| 2.2 测试方法 | 第29-33页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第29-30页 |
| 2.2.2 原子力显微镜(AFM) | 第30-31页 |
| 2.2.3 电阻-温度曲线(R-T) | 第31-32页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第32页 |
| 2.2.5 高分辨透射电镜(HRTEM) | 第32-33页 |
| 2.3 本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 原位沉积原位退火生长YBa_2Cu_4O_8薄膜 | 第35-59页 |
| 3.1 单相靶材制备Y-124薄膜的研究 | 第35-38页 |
| 3.1.1 生长温度对薄膜的影响 | 第35-36页 |
| 3.1.2 退火温度对薄膜的影响 | 第36-37页 |
| 3.1.3 沉积后未退火对薄膜的影响 | 第37-38页 |
| 3.1.4 结果验证及分析 | 第38页 |
| 3.2 sol-gel法合成靶制备Y-124薄膜的研究 | 第38-47页 |
| 3.2.1 原位退火温度的影响 | 第39-41页 |
| 3.2.2 原位退火氧压的影响 | 第41-42页 |
| 3.2.3 原位退火时间的影响 | 第42-44页 |
| 3.2.4 长时间原位退火下温度的影响 | 第44-45页 |
| 3.2.5 衬底倾斜角度对薄膜的影响 | 第45-47页 |
| 3.3 固相法合成靶制备Y-124薄膜的研究 | 第47-58页 |
| 3.3.1 原位生长温度的影响 | 第48-50页 |
| 3.3.2 原位生长氧压的影响 | 第50-51页 |
| 3.3.3 原位退火温度的影响 | 第51-53页 |
| 3.3.4 不同衬底对薄膜的影响 | 第53-55页 |
| 3.3.5 衬底倾斜角度对薄膜的影响 | 第55-58页 |
| 3.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 原位沉积后退火生长YBa_2Cu_4O_8薄膜 | 第59-71页 |
| 4.1 Y-124单相靶制备Y-124薄膜 | 第59-60页 |
| 4.2 固相法合成靶制备Y-124薄膜 | 第60-65页 |
| 4.2.1 后退火气氛的影响 | 第60-61页 |
| 4.2.2 后退火温度的影响 | 第61-62页 |
| 4.2.3 后退火时间的影响 | 第62-65页 |
| 4.3 sol-gel法合成靶制备薄膜的研究 | 第65-68页 |
| 4.3.1 后退火时间的影响 | 第65-66页 |
| 4.3.2 后退火温度的影响 | 第66-67页 |
| 4.3.3 后退火气氛的影响 | 第67-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-71页 |
| 第五章 三种靶材原位及后退火制备薄膜对比 | 第71-81页 |
| 5.1 不同靶材原位退火制备薄膜对比研究 | 第71-72页 |
| 5.2 不同靶材后退火制备薄膜对比研究 | 第72-73页 |
| 5.3 原位与后退火制备薄膜对比研究 | 第73-79页 |
| 5.3.1 单相靶原位与后退火制备薄膜对比研究 | 第73-74页 |
| 5.3.2 固相法合成靶原位与后退火制备薄膜对比研究 | 第74-76页 |
| 5.3.3 sol-gel合成靶原位与后退火制备薄膜对比研究 | 第76-79页 |
| 5.4 本章小结 | 第79-81页 |
| 第六章 结论与展望 | 第81-83页 |
| 6.1 结论 | 第81-82页 |
| 6.2 展望 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-89页 |
| 附录A 发表的文章 | 第89页 |
