半导体晶元厂厂务制程相关系统改进

摘要	第2-4页
Abstract	第4-5页
1. 绪论	第10-13页
1.1 研究背景介绍	第10页
1.2 厂务制程相关系统的现状和需求分析	第10-11页
1.3 厂务制程相关系统设计准则	第11-12页
1.4 厂务制程相关系统的运行准则	第12-13页
2. 晶元厂的纯水系统	第13-23页
2.1 纯水系统介绍	第13-17页
2.2 XX晶元厂的纯水系统设计	第17-23页
3. 纯水系统的节水探讨	第23-50页
3.1 概述	第23页
3.2 纯水系统流程的节水设计	第23-27页
3.3 传统的水回收方法	第27页
3.4 再生废水的回收	第27-40页
3.5 Local Scrubber排水的回收	第40-44页
3.6 MAU冷凝水的回收	第44-45页
3.7 仪表用水的回收	第45页
3.8 耗材更换冲洗水的回收	第45-46页
3.9 总结	第46-50页
4. 化学系统的改进	第50-65页
4.1 概述	第50-56页
4.2 化学系统要酸的安全控制	第56-57页
4.3 要酸时间计算	第57-60页
4.4 Dev混酸系统稀释流程的改进v	第60-64页
4.5 小结	第64-65页
5. 总结	第65-67页
参考文献	第67-68页
附录一 用酸时间计算软件代码	第68-79页